[发明专利]一种LPCVD工艺腔加热系统

权利要求书

1.一种LPCVD工艺腔加热系统，包括控制系统、加热部件、被加热体三部分；其中，被加热体为加热板(1)；加热部件包括四根加热丝(2)，加热丝(2)嵌入到加热板(1)中；控制系统包括四个温控器(3)和四个固态继电器(4)，四个温控器(3)分别对应四根加热丝(2)，每个温控器(3)与对应的固态继电器(4)通过两根控制线连接，固态继电器(4)的输出端与加热丝(2)连接。

2.根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔加热系统，其特征在于所述加热丝(2)中三个加热丝(2)嵌入在加热板(1)下表面，一个加热丝(2)嵌入在加热板(1)上表面的边缘条。

3.根据权利要求2所述的LPCVD工艺腔加热系统，其特征在于所述嵌入在加热板(1)下表面的加热丝(2)的位置分布通过在整个腔室内对温度分布有影响的冷却系统、加热板(1)的尺寸、腔室尺寸、喷淋板的尺寸、喷淋板孔分布等要素进行模拟后得出。

4.根据权利要求2所述的LPCVD工艺腔加热系统，其特征在于所述嵌入在加热板(1)下表面的三个加热丝(2)为环形内外分布。

5.根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔加热系统，其特征在于所述加热板(1)的上表面与TCO玻璃接触且没有空隙。

6.根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔加热系统，其特征在于所述温控器(3)为使用热电偶、铂电阻、模拟量电压输入、模拟量电流输入中一种或几种的多重输入型。

7.根据权利要求1所述的LPCVD工艺腔加热系统，其特征在于所述温控器(3)的调整功能包括自动整定、自我整定选择。