[发明专利]涂布装置及涂布方法无效
申请号: | 201110371649.0 | 申请日: | 2011-11-21 |
公开(公告)号: | CN102520554A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 严茂程 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1341 | 分类号: | G02F1/1341;G02F1/1337;B41J2/01 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 欧阳启明 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
1.一种涂布装置,包括涂布平台、涂布吐出头以及控制所述涂布吐出头进行涂布操作的控制单元,所述控制单元与所述涂布吐出头连接,其特征在于,所述涂布装置还包括用于检查放置在所述涂布平台上的基板的涂布效果的图像传感器。
2.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布装置还包括用于对涂布不良的位置进行定位的定位单元,所述图像传感器与所述定位单元连接。
3.根据权利要求2所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布装置还包括用于对基板上的涂布不良区域进行修补的修补吐出头。
4.根据权利要求3所述的涂布装置,其特征在于,所述修补吐出头与所述涂布吐出头一体化。
5.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布装置还包括驱动系统,所述驱动系统与所述涂布平台连接、所述驱动系统与所述涂布吐出头连接、或所述驱动系统分别与所述涂布平台和所述涂布吐出头连接。
6.一种涂布方法,其特征在于,包括步骤:
对涂布平台上的基板进行液体涂布操作;
图像传感器对所述基板的涂布效果进行检查。
7.根据权利要求6所述的涂布方法,其特征在于,所述涂布方法还包括步骤:
根据所述检查结果对涂布不良的位置进行定位。
8.根据权利要求7所述的涂布方法,其特征在于,所述涂布方法还包括步骤:
根据定位数据对所述基板上的涂布不良区域进行修补。
9.根据权利要求8所述的涂布方法,其特征在于,所述涂布方法还包括步骤:
依次对修补完毕的基板进行扩散处理及干燥处理。
10.根据权利要求6-9中任一所述的涂布方法,其特征在于,所述对涂布平台上的基板进行液体涂布操作的步骤是采用喷墨涂布技术对所述涂布平台上的基板进行配向膜涂布操作。
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