[发明专利]一种无氰镀金电镀液无效

专利信息
申请号: 201110369733.9 申请日: 2011-11-21
公开(公告)号: CN102383154A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 孙建军;张国明;邱清一;陈金水 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: C25D3/48 分类号: C25D3/48
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀金 电镀
【权利要求书】:

1.一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述无氰镀金电镀液的配方包括以下组份:金的无机酸,主络合剂,辅助络合剂;所述主络合剂为烷烃化合物,辅助络合剂为非营养性甜味剂。

2.根据权利要求1所述的一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述组分的质量浓度为:金的无机酸1 ~ 30 g/L,主络合剂5 ~ 90 g/L,辅助络合剂1 ~ 100 g/L。

3.根据权利要求1所述的一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述金的无机酸为氯金酸。

4.根据权利要求1所述的一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述的烷烃化合物为三羟甲基氨基甲烷或其盐酸盐,所述的非营养性甜味剂为糖精或其盐类。

5.根据权利要求1所述的一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述无氰镀金电镀液的配方中添加电镀添加剂。

6.根据权利要求5所述的一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述电镀添加剂为聚乙烯亚胺、哌嗪或聚乙烯吡咯烷酮。

7.根据权利要求1所述的一种无氰镀金电镀液,其特征在于:所述的无氰镀金电镀液的操作条件为:pH为7 ~ 9,电流密度为0.05 A/dm~ 0.5 A/dm2, 温度为20 ~ 60℃。

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