[发明专利]曝光装置以及曝光方法无效
申请号: | 201110364683.5 | 申请日: | 2011-11-11 |
公开(公告)号: | CN102540575A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 根本亮二 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高科技 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 以及 方法 | ||
1.一种配向膜的曝光装置,包括:
支撑着基板的夹具、保持着光罩的光罩固定架、以及照射出直线偏光的曝光光束的曝光光束照射装置,在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙,将从所述曝光光束照射装置照射出的直线偏光的所述曝光光束经由所述光罩而照射至所述基板,使涂布于所述基板的配向膜产生调整液晶的排列方向的配向特性,所述配向膜的曝光装置的特征在于:
将光偏转元件设置于所述光罩的上表面或下表面,将所述曝光光束倾斜地从所述光罩照射至所述基板,所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束透过,且使所述曝光光束的前进方向倾斜。
2.根据权利要求1所述的配向膜的曝光装置,其特征在于
将多个种类的所述光偏转元件设置于所述光罩的上表面或下表面,各种所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向分别向不同的方向倾斜。
3.根据权利要求2所述的配向膜的曝光装置,其特征在于
将两种光偏转元件设置于所述光罩的下表面,各种所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向朝彼此相差180度的方向倾斜。
4.根据权利要求2所述的配向膜的曝光装置,其特征在于
将四种所述光偏转元件设置于所述光罩的下表面,各种所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向朝彼此相差90度的方向倾斜。
5.根据权利要求2所述的配向膜的曝光装置,其特征在于
将两种所述光偏转元件设置于所述光罩的下表面,各种所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向朝彼此相差90度的方向倾斜。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的配向膜的曝光装置,其中
所述光偏转元件为透射型闪耀衍射光栅,该透射型闪耀衍射光栅的槽的剖面形状为锯齿状。
7.一种配向膜的曝光方法,
利用夹具来支撑着基板,利用光罩固定架来保持着光罩,在所述光罩与所述基板之间设置微小的间隙,将从曝光光束照射装置照射出的直线偏光的曝光光束经由所述光罩而照射至所述基板,使涂布于所述基板的配向膜产生调整液晶的排列方向的配向特性,所述配向膜的曝光方法的特征在于:
将光偏转元件设置于所述光罩的上表面或下表面,将所述曝光光束倾斜地从所述光罩照射至所述基板,所述光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束透过,且使所述曝光光束的前进方向倾斜。
8.根据权利要求7所述的配向膜的曝光方法,其特征在于
将多个种类的所述光偏转元件设置于所述光罩的上表面或下表面,所述多个种类的光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向分别向不同的方向倾斜。
9.根据权利要求8所述的配向膜的曝光方法,其特征在于
将两种所述光偏转元件设置于所述光罩的下表面,所述两种光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向朝彼此相差180度的方向倾斜。
10.根据权利要求8所述的配向膜的曝光方法,其特征在于
将四种所述光偏转元件设置于所述光罩的下表面,所述四种光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向朝彼此相差90度的方向倾斜。
11.根据权利要求8所述的配向膜的曝光方法,其特征在于
将两种所述光偏转元件设置于所述光罩的下表面,所述两种光偏转元件使从所述曝光光束照射装置照射出的所述曝光光束的前进方向朝彼此相差90度的方向倾斜。
12.根据权利要求7至11中任一项所述的配向膜的曝光方法,其特征在于
使用槽的剖面形状为锯齿状的透射型闪耀衍射光栅作为所述光偏转元件。
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