[发明专利]化学气相沉积法制备石墨烯的高质量转移方法无效

专利信息
申请号: 201110342036.4 申请日: 2011-11-03
公开(公告)号: CN102351175A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 郭新立;刘建双;汤铨;季伟光 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C01B31/04 分类号: C01B31/04
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 化学 沉积 法制 石墨 质量 转移 方法
【权利要求书】:

1.一种化学气相沉积法制备石墨烯的高质量转移方法,其特征在于该方法包括以下步骤:

a.将通过化学气相沉积法在铜箔衬底上制备的石墨烯表面旋涂一层厚度均匀的聚甲基丙烯酸甲酯PMMA薄层,其厚度为0.5-1.0 mm, PMMA溶解于苯甲醚,增加PMMA量以增加胶体的粘度,浓度为0.1-0.13 mol/L度,铜箔尺寸为1-6cm2

b.铜箔溶解

1)铜溶解剂选择过硫酸铵——(NH4)2S2O8

具体步骤:将铜箔PMMA层朝上,使铜箔漂浮于溶液表面,生长时铜箔上下两表

面均有石墨烯,未涂PMMA层的一面在腐蚀时,下底面分离出底面的石墨烯层而分散到腐蚀液中;待铜箔和另一面的石墨烯去除干净后,得到PMMA涂覆的石墨烯薄膜,即PMMA/石墨烯;

2) PMMA/石墨烯清洗:将PMMA/石墨烯附着于干净的玻璃片上,由于有水分,

石墨烯附着不紧,不会粘贴到玻璃片上,然后将此玻璃片转到去离子水中,漂浮于去离子水面,超声清洗,换水2-3次;

c.贴膜工艺

基底材料为玻璃片、石英片或表面有SiO2层的硅片;

将基底清洗干净后,利用水的表面张力将PMMA/石墨烯薄膜吸附到基底材料硅

片、玻璃片或石英片上,在薄膜边缘吸走剩余的水分,再用干净气体在薄膜中部吹气,最后在90-100℃环境中烘干水分,使PMMA/石墨烯与基底紧密的结合;

d.去除PMMA工艺

采用苯甲醚溶解PMMA薄膜:先将载有PMMA/石墨烯的基底倾斜,再将苯甲醚轻滴于基底边缘,使苯甲醚缓慢覆盖于PMMA薄层上,此时PMMA薄膜会立刻被融解掉,在边缘用吸纸将有机溶剂吸走,重复几次,将石墨烯/基底清洗干净;最后吹干完成石墨烯的转移过程,得到高质量、杂质较少的石墨烯。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积法制备石墨烯的高质量转移方法,其特征在于在石墨烯表面旋涂一层厚度均匀的聚甲基丙烯酸甲酯PMMA薄膜,涂覆过程参数为:先低速620rpm涂覆10s,再高速4200rpm涂覆60s,然后在加热台上于130-150℃加热5min.。

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