[发明专利]反光标记的制备方法及其结构无效
申请号: | 201110332598.0 | 申请日: | 2011-10-27 |
公开(公告)号: | CN103088767A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 李鸿桢 | 申请(专利权)人: | 彩晶先进光学科技股份有限公司 |
主分类号: | E01F9/06 | 分类号: | E01F9/06;B29C69/00;C08L67/02;C08L69/00;C08K13/04;C08K7/14;C08K3/34;C08K3/36;C08K3/22 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 张艳赞 |
地址: | 中国台湾台北市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反光 标记 制备 方法 及其 结构 | ||
1.一种反光标记的制备方法,其特征在于,所述反光标记的制备方法包括:
将100质量份的聚碳酸树脂+聚对苯二甲酸二丁酯、5~50质量份的玻璃纤维及5~50质量份的硅酸钙四种原料混合搅拌并经由射出成型机射出一体成型为上盖体及下盖体,其中上盖体与反光片通过超声波焊接成一体,再通过超声波与下盖体焊接为半成品,最后再在半成品表面上喷上无机纳米散热涂料以得到所述反光标记的成品。
2.一种反光标记的制备方法,其特征在于,所述反光标记的制备方法包括:
将100质量份的聚碳酸树脂+丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚合物、5~50质量份的玻璃纤维及5~50质量份的硅酸钙四种原料混合搅拌并经由射出成型机射出一体成型为上盖体及下盖体,其中上盖体与反光片通过超声波焊接成一体,再通过超声波与下盖体焊接为半成品,最后再在半成品表面上喷上无机纳米散热涂料以得到所述反光标记的成品。
3.一种反光标记的制备方法,其特征在于,所述反光标记的制备方法包括:
将100质量份的聚碳酸树脂+丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚合物及5~50质量份的玄武岩纤维三种原料混合搅拌并经由射出成型机射出一体成型为上盖体及下盖体,其中上盖体与反光片通过超声波焊接成一体,再通过超声波与下盖体焊接为半成品,最后再在半成品表面上喷上无机纳米散热涂料以得到所述反光标记的成品。
4.一种反光标记的制备方法,其特征在于,所述反光标记的制备方法包括:
将100质量份的聚碳酸树脂+聚对苯二甲酸二丁酯及5~50质量份的玄武岩纤维三种原料混合搅拌并经由射出成型机射出一体成型为上盖体及下盖体,其中上盖体与反光片通过超声波焊接成一体,再通过超声波与下盖体焊接为半成品,最后再在半成品表面上喷上无机纳米散热涂料以得到所述反光标记的成品。
5.一种反光标记的制备方法,其特征在于,所述反光标记的制备方法包括:
将100质量份的聚碳酸树脂+聚对苯二甲酸二丁酯及5~50质量份的玻璃纤维三种原料混合搅拌并经由射出成型机射出一体成型为上盖体及下盖体,其中上盖体与反光片通过超声波焊接成一体,再通过超声波与下盖体焊接为半成品,最后再在半成品表面上喷上无机纳米散热涂料以得到所述反光标记的成品。
6.一种反光标记的制备方法,其特征在于,所述反光标记的制备方法包括:
将100质量份的聚碳酸树脂及5~50质量份的玄武岩纤维二种原料混合搅拌并经由射出成型机射出一体成型为上盖体及下盖体,其中上盖体与反光片通过超声波焊接成一体,再通过超声波与下盖体焊接为半成品,最后再在半成品表面上喷上无机纳米散热涂料以得到所述反光标记的成品。
7.一种反光标记的结构,其特征在于,所述反光标记的结构包括:
一上盖体,其为扁平梯形,所述上盖体前后面边缘为圆弧状,两侧反射斜面凹槽为连接反光片之处,整体一体射出且内部具有补强凸肋结构,且上盖体表面上开设有下陷0.1~1mm的凹槽和两侧边各开设有增加表面磨擦力的半个六角形缺口,其中所述凹槽的形状为矩形、六角形或圆形;
一下盖体,其通过超声波焊接于上盖体底面并合成一体,所述下盖体整体一体射出且内部具有补强凸肋结构,且下盖体底面设有补强凹槽,补强凹槽的形状为矩形或圆形;
二反光片,其通过超声波焊接于上盖体前后面的两侧反射斜面凹槽上,每一反光片背面设有补强凸肋结构。
8.如权利要求6所述反光标记的结构,其特征在于,所述上盖体及下盖体的补强凸肋结构的形状为圆柱形或六角形。
9.如权利要求6所述反光标记的结构,其特征在于,所述上盖体的补强凸肋结构,高度为0.5~1.5mm时,其顶面为三角形。
10.如权利要求6所述反光标记的结构,其特征在于,所述下盖体的补强凸肋结构,高度为0.5~1.5mm时,其顶面为三角形。
11.如权利要求6所述反光标记的结构,其特征在于,所述反光片背面上补强凸肋结构形状为六角形、方形或圆形。
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