[发明专利]一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法

权利要求书

1.一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：

（A）备料：原材料为铝酸钠溶液、硅酸钠溶液、离子膜液碱和水，其配比按摩尔比为；氧化铝：氧化硅：氧化钠：水=1：1.9～1.95：1.8～3.2：70～210；

（B）成胶；将步骤（A）所准备的原料按铝酸钠、离子膜碱、水、硅酸钠的顺序放入反应釜，并搅拌充分使其混合，混合物的温度控制在38~42℃，保持该温度15~60分钟制得胶液； 

（C）晶化；将步骤（B）制得的胶液在搅拌状态下升温至60~90℃进行动态晶化，然后升温至85~100℃进行静态晶化得到固体； 

（D）洗涤；将步骤（C）所得固液混合物用水或溶液洗涤，使其PH值小于11.5，过滤得到滤饼； 

（E）干燥，将步骤（D）所得滤饼通过加热去除水分。

2.根据权利要求1所述的一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，所述步骤（A）备料，还包括助晶剂，助晶剂与氧化铝比为0.1~1.0。

3.根据权利要求2所述的一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，所述步骤（A）备料中，硅铝比为1.9~1.95，钠硅比为1.0~1.4，水钠比为50~65，助晶剂与氧化铝比为0.5~0.7。

4.根据权利要求2所述的一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，所述的助晶剂是阴离子表面活性剂。

5.根据权利要求1所述的一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，所述步骤（D）洗涤，将步骤（C）制得的产品放入洗涤液中，浸泡10～30分钟后取出，并重复浸泡清洗2～5次。

6.根据权利要求1所述的一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，所述的洗涤液由水与助洗剂构成，助洗剂的加入量为原料重量的1%~10%，助洗剂浓度为0.01～0.1M,助洗剂为强酸弱碱盐 、无机稀酸、有机酸中的任意一种。

7.根据权利要求6所述的一种大晶粒、高分散的4A沸石的合成方法，其特征在于，所述助洗剂的加入量为原料重量的1.5%~3%。