[发明专利]控制液晶显示装置接触孔孔壁角度的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及到液晶显示领域，特别涉及到一种控制液晶显示装置接触孔 孔壁角度的制作方法。

背景技术

图1所示是现有技术的液晶面板的剖视图，参照图1，液晶面板包括TFT 基底60、面对TFT基底60的滤色基底70、位于TFT基底60和滤色基底70之间的 液晶层80。

TFT基底60包括相对设置的第一基底10、形成在第一基底10上的TFT20、 形成在具有TFT20的第一基底10上的有机绝缘层30、形成在有机绝缘层30上的 像素电极40及形成在像素电极40上的第一对准膜50。

每个TFT20都包括栅极21、门绝缘层22、有源图案23、欧姆接触图案24、 源极25和漏极26。利用门绝缘层22使栅极21与源极25和漏极26绝缘。在门绝 缘层22上形成有源图案23和欧姆接触图案24，以根据施加给栅极21上的电源， 通过有源图案23和欧姆接触图案24使源极25与漏极26电连接。源极25和漏极 26形成在有源图案23和欧姆接触图案24上。

有机绝缘层30形成在TFT20上。在有机绝缘层30上形成用于暴露漏极26 的接触孔35，接触孔35的孔壁倾斜角度为θ。像素电极40均匀地形成在有机 绝缘层30、透过接触孔35暴露的漏极26及接触孔35的侧壁上。第一对准膜50 形成在像素电极40上，并具有多个沿预定方向或摩擦方向延伸的对准槽。

滤色基底70包括第二基底71、滤色板72、共用电极73和第二对准膜74。 共用电极73面向像素电极40，以与TFT基底60相对。滤色基底70与TFT基底60 相互面对地配合，而液晶层80位于滤色基底70和TFT基底60之间。

目前，制作接触孔35的制作方法为：

(1)将绝缘材料用溅射的方式在第一基底10上形成有机绝缘层30；

(2)在有机绝缘层30上光阻剂；

(3)光阻剂层通过使用掩模进行曝光和显影而图案化；

(4)利用光阻剂图案，使掩模得到蚀刻，然后进行光阻边缘清除工艺， 以移去部分光阻；

(5)对掩模进行烧烤，以硬化得到接触孔35。

上述制作方法，通过烘烤的方式形成接触孔的孔壁倾斜角度，不能准确 的控制接触孔35的角度，当接触孔35孔壁倾斜角度小于45度时，会造成接触 孔35的面积过大而降低开口率影响亮度，而接触孔35孔壁倾斜角度大于70度 时会造成下一道ITO制程镀膜不均产生缺陷。

发明内容

本发明的主要目的为提供一种控制液晶显示装置接触孔孔壁角度的制作 方法，使接触孔孔壁倾斜角度控制在45-70度之间，获得最佳开口率。

本发明提出一种控制液晶显示装置接触孔孔壁角度的制作方法，包括以 下步骤：

A)在基底上涂覆光刻胶，形成光刻胶层；

B)利用具有预定图案的光硬化单体对所述光刻胶层进行曝光；

C)利用显影剂对经过上述处理后的光刻胶层进行显影时间，控制显影时 间、显影温度和显影剂的浓度，得到预设角度的接触孔孔壁。

优选地，所述步骤C)包括：

固定显影剂的浓度和显影温度，控制显影时间以得到预设角度的接触孔 孔壁。

优选地，所述显示时间为30秒到40秒钟。

优选地，所述步骤C)包括：

固定显影时间和显影温度，控制显影剂的浓度以得到预设角度的接触孔 孔壁。

优选地，所述显示剂的浓度为0.03％到0.05％。

优选地，所述步骤C)包括：

固定显影剂的浓度和显影时间，控制显影温度以得到预设角度的接触孔 孔壁。

优选地，所述显影温度为20℃至40℃。

优选地，在步骤C)之后，还包括步骤：

D)使用UV光照射光刻胶层，硬化光硬化单体。

本发明提出的一种控制液晶显示装置接触孔孔壁角度的制作方法，区别 于现有技术通过后烘烤温度来控制接触孔孔壁角度，本实施例的制作接触孔 的方法利用包括光硬化单体的光刻胶之材料溶点特性，综合控制显影温度、 显影剂的浓度和温度时间，将接触孔孔壁的倾斜角度准确控制在45度至70度 之间。

附图说明

图1为现有技术的液晶面板的剖面图；