[发明专利]结合进气和排气的喷头无效
| 申请号： | 201110305612.8 | 申请日： | 2011-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN102534557A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 黄智勇;王庆钧;蔡陈德;许文通;董福庆;陈建志;潘益宗;孙健仁 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 结合 排气 喷头 | ||
1.一种结合进气和排气的喷头，适于进行气体的喷洒，该喷头至少包括一喷头主体，其特征在于：
该喷头主体具有一气体作用表面、位于该气体作用表面上的多数个进气孔以及位于该气体作用表面的中心位置的一中央排气口。
2.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该中央排气口的面积与该些进气孔的面积的比率为0.03～0.04。
3.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该中央排气口由多数个排气孔所构成。
4.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该中央排气口的抽气端向该喷头主体内凹。
5.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该中央排气口的排气方向与该些进气孔的进气方向相互平行。
6.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该中央排气口的面积与该些进气孔的面积的比率小于0.03。
7.如权利要求6所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该喷头主体还包括至少一环状排气口，该环状排气口是以该中央排气口为中心呈同心圆状地配置。
8.如权利要求7所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该环状排气口包括由多数个排气孔所构成。
9.如权利要求7所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该环状排气口的抽气端向该喷头主体内凹。
10.如权利要求7所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该环状排气口的排气方向与该些进气孔的进气方向相互平行。
11.如权利要求7所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：还包括至少一流量计，用以控制该中央排气口或该环状排气口的排气量。
12.如权利要求7所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该结合进气和排气的喷头用于将该气体喷洒至多数个基板上。
13.如权利要求12所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该环状排气口与该些基板的位置错开配置。
14.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：还包括至少一流量计，用以控制该中央排气口的排气量。
15.如权利要求1所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该结合进气和排气的喷头用于将该气体喷洒至多数个基板上。
16.如权利要求15所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该中央排气口与该些基板的位置错开配置。
17.如权利要求12或15所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：还包括一升降机构，用以调整该些基板与该喷头主体的距离。
18.如权利要求12或15所述的结合进气和排气的喷头，其特征在于：该喷头主体的面积大于该些基板的总面积。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
