[发明专利]分立掩膜和通过利用该分立掩膜装配掩膜框组件的方法

说明书

优先权要求

本申请引用于2011年1月10日较早递交到韩国知识产权局且从而被正式分配序列号No.10-2011-0002305的申请，将其合并于此，并要求该申请的所有权益。

技术领域

本发明涉及在沉积薄膜中使用的分立掩膜以及通过利用分立掩膜装配掩膜框组件的方法。

背景技术

一般来说，在显示装置中，有机发光显示装置具有宽的视角、优良的对比度和快速的效应速度。

在有机发光显示装置中，通过被注入阳极和阴极中的空穴和电子的复合发射光。有机发光显示装置具有堆叠结构，在该堆叠结构中，发射层被插置在阳极与阴极之间。然而，由于对具有这种结构的有机发光显示装置来说难以具有高的发光效率，因此电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等等被选择性地插置在发射层与阳极和阴极中的每个之间。

电极和包括有机发光显示装置的发射层的中间层，通过利用各种方法来形成。这些方法中之一是沉积方法。为了通过利用沉积方法来制造有机发光显示装置，具有与待形成在基板上的薄膜相同的图案的精细金属掩膜(FMM)被对准在该基板上，然后具有期望的图案的薄膜通过沉积薄膜的原材料来形成。

由于FMM在尺寸上很大，因此会出现更大的蚀刻误差，并且FMM的中央部分可能由于它的重量而下陷。因此，近来，已经广泛使用通过形成各种掩膜杆并且将掩膜杆连附到框架上而形成的分立掩膜(division mask)。

然而，分立掩膜在尺寸上很大，具有大约1,840mm的长度，以便满足用户对大尺寸显示装置的需求。因此，在每个分立掩膜中的长度方向上可能形成褶皱。也就是说，由于每个分立掩膜在尺寸上很长，因此可能在分立掩膜上形成褶皱，并且分立掩膜并不一直平坦。在这种情况下，在精细图案通过利用分立掩膜而形成的沉积过程中也可能出现各种问题。

因此，需要防止在分立掩膜上形成褶皱。

发明内容

本发明提供在沉积薄膜中使用的分立掩膜，以及通过利用该分立掩膜装配掩膜框组件的方法，其中防止了在分立掩膜中形成褶皱。

根据本发明的一方面，一种分立掩膜包括：杆体，在该杆体上形成有沉积图案；以及夹紧部分，所述夹紧部分沿所述杆体的纵向从所述杆体向外延伸，所述夹紧部分从所述杆体在宽度上增加。

所述杆体和所述夹紧部分之间的连接部分可以被焊接到掩膜框组件的框架上。

在所述连接部分被焊接在所述框架上之后，所述夹紧部分可以被移除。

所述夹紧部分可以包括延伸部分，该延伸部分具有从所述杆体向外增加的宽度，并且所述夹紧部分可以具有“Y”形。

根据本发明的另一方面，一种装配掩膜框组件的方法包括：制备多个分立掩膜和所述多个分立掩膜被连附至的框架，每个分立掩膜包括杆体和夹紧部分，在所述杆体上形成有沉积图案，所述夹紧部分沿所述杆体的纵向从所述杆体向外延伸，并且所述夹紧部分从所述杆体在宽度上增加；以及在通过夹持所述分立掩膜的夹紧部分将张力施加到所述分立掩膜上的同时，将所述杆体焊接到所述框架上。

所述方法可以进一步包括切掉所述分立掩膜的在之上完成所述焊接的夹紧部分。

在所述杆体被焊接到所述框架上时，所述杆体和所述夹紧部分之间的连接部分可以被焊接到所述框架上。

所述夹紧部分可以包括延伸部分，所述延伸部分具有从所述杆体向外增加的宽度，并且所述夹紧部分可以具有“Y”形。

通过利用以上结构，由于在掩膜框组件的装配期间，拉紧张力因夹紧部分的延伸部分而被施加在所述分立掩膜上，因此可以防止形成褶皱，从而获得精确且稳定的掩膜框组件。

附图说明

通过参照以下结合附图考虑时的详细描述，本发明的更完整理解及其许多伴随优势由于变得更好理解而易于显而易见，在附图中相同的附图标记表示相同或相似的部件，其中：

图1是根据本发明实施例的分立掩膜的平面图；

图2是根据本发明实施例的掩膜框组件的平面图，在所述掩膜框组件中图1的分立掩膜和一框架被彼此连附；以及

图3A到图3D是根据本发明实施例的用于描述装配图2的掩膜框组件的方法的平面图。

具体实施方式

现在将参照附图对本发明进行更充分的描述，在附图中示出了本发明的示例性实施例。

图1是根据本发明实施例的分立掩膜的平面图，并且图2是根据本发明实施例的掩膜框组件的平面图，在所述掩膜框组件中图1的分立掩膜和一框架被彼此连附。