[发明专利]光学记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 201110304743.4 | 申请日： | 2008-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102360559A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 和田豊 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/254 | 分类号： | G11B7/254;G11B7/24;G11B7/243;G11B7/257;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学记录介质，包括：
无机记录层；以及
保护层，被设置在所述无机记录层的至少一个表面上；
其中，所述无机记录层具有满足以下式(1)的组成：
[(ZnS)x(SiO2)1-x]y(SbzX1-z)1-y…(1)
其中，0＜x≤1.0、0.3≤y≤0.7、以及0.8＜z≤1.0，并且X为 选自由Ga、Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、Cr、Sn以及Tb所组成 的组中的至少一种元素。
2.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述无机记录层的厚 度为3nm以上且40nm以下。
3.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，X为Sn元素。
4.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述保护层包含氧化 铟和氧化锡作为主要成分。
5.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述保护层设置在所 述无机记录层的表面中的用于记录和/或再生的激光束入射到其上 的表面上，并且
所述保护层的厚度为11nm以上且34nm以下。
6.根据权利要求1所述的光学记录介质，还包括热积累层，其设置在 所述无机记录层的至少一个表面上，
其中，所述无机记录层与所述热积累层邻接。
7.根据权利要求6所述的光学记录介质，其中，所述热积累层包含ZnS 和SiO2作为主要成分。
8.根据权利要求6所述的光学记录介质，其中，当以d1来表示所述保 护层的厚度，而以d2来表示所述热积累层的厚度时，这些厚度d1 和d2满足关系0.07≤d2/(d1+d2)≤0.95，其中，所述热积累层设 置在所述保护层和所述无机记录层之间。
9.一种光学记录介质的制造方法，包括：
形成无机记录层的步骤；以及
在所述无机记录层的至少一个表面上形成保护层的步骤，
其中，所述无机记录层具有满足以下式(1)的组成：
[(ZnS)x(SiO2)1-x]y(SbzX1-z)1-y…(1)
其中，0＜x≤1.0、0.3≤y≤0.7、以及0.8＜z≤1.0，并且X为 选自由Ga、Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、Cr、Sn以及Tb所组成 的组中的至少一种元素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司，未经索尼公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110304743.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
