[发明专利]一种上电极及应用该上电极的等离子体加工设备有效

专利信息
申请号: 201110303332.3 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN103031543A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 王锴;韦刚 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: C23C16/505 分类号: C23C16/505
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张天舒;陈源
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电极 应用 等离子体 加工 设备
【权利要求书】:

1.一种上电极,包括上极板、与所述上极板相对的下极板以及连接板,所述上极板、下极板和连接板形成空腔,在所述下极板上设置有贯穿其厚度的气孔,其特征在于,在所述上极板和下极板之间设有导体环,所述导体环将所述空腔分成沿其径向方向分布的多个环形子腔室,导体环上有连通各环形子腔室的径向通孔,而且在所述上极板上与每个所述环形子腔室对应的位置设有一个或多个进气通道。

2.根据权利要求1所述的上电极,其特征在于,所述导体环与所述上极板或下极板为一体结构,即所述导体环为设置在所述上极板或下极板上的凸部。

3.根据权利要求1所述的上电极,其特征在于,在所述上极板和下极板之间设有多个所述导体环,且所述多个导体环的中心线与所述空腔的中心线重合。

4.根据权利要求1所述的上电极,其特征在于,所述导体环在上电极所在平面上的投影的形状与所述连接板在上电极所在平面上的投影的形状相似。

5.根据权利要求4所述的上电极,其特征在于,所述连接板在上电极所在平面上的投影的形状为圆环形,对应地,所述导体环在上电极所在平面上的投影的轮廓为圆环形。

6.根据权利要求5所述的上电极,其特征在于,所述上极板的直径为380~420mm,所述上极板和下极板之间的距离为18~22mm,在所述空腔内设有一个所述导体环,且所述导体环的外径尺寸为28~32mm,其内径尺寸为20~24mm。

7.根据权利要求5所述的上电极,其特征在于,所述上极板的直径为480~520mm,所述上极板和下极板之间的距离为8~12mm,在所述空腔内设有一个所述导体环,且所述导体环的外径尺寸为140~160mm,其内径尺寸为132~152mm。

8.根据权利要求5所述的上电极,其特征在于,所述上极板的直径为580~620mm,所述上极板和下极板之间的距离为22~26mm,在所述空腔内设有一个所述导体环,且所述导体环的外径为尺寸为180~200mm,其内径尺寸为172~192mm。

9.根据权利要求4所述的上电极,其特征在于,所述连接板在上电极所在平面上的投影的形状为多边环形,对应地,所述导体环在上电极所在平面上的投影的形状为多边环形。

10.根据权利要求9所述的上电极,其特征在于,所述连接板在上电极所在平面上的投影的形状为四方环形,对应地,所述导体环在上电极所在平面上的投影的形状为四方环形。

11.根据权利要求1所述的上电极,其特征在于,所述导体环采用铝、铜或铝合金制作而成。

12.一种等离子体加工设备,其包括反应腔室,在所述反应腔室内部的靠上位置设置有上电极,在所述反应腔室的底部且与上电极相对的位置设有下电极,其特征在于,所述上电极采用权利要求1-11中任意一项所述的上电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110303332.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top