[发明专利]液晶面板及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶面板，包括：彩膜基板和阵列基板，在所述彩膜基板和所述阵列基板之间设置有液晶层，所述彩膜基板包括隔垫物，其特征在于，还包括：辅助隔垫物，所述辅助隔垫物设置位置与所述阵列基板上的栅线位置和数据线位置相对应。

2.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述辅助隔垫物设置位置与所述阵列基板上的栅线位置和数据线位置相对应具体为：所述辅助隔垫物的上截面设置在所述彩膜基板的公共电极层上，所述辅助隔垫物的下截面覆盖在所述阵列基板的栅线和数据线上。

3.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，

所述辅助隔垫物的材料的介电常数小于液晶层的液晶的介电常数。

4.根据权利要求3所述的液晶面板，其特征在于，

所述辅助隔垫物的材料的介电常数小于6.46。

5.一种液晶面板的制造方法，其特征在于，包括：

在依次形成有黑矩阵、彩膜层和公共电极层的彩膜基板的公共电极层上贴附隔垫物材料和辅助隔垫物材料，形成隔垫物和辅助隔垫物，所述辅助隔垫物设置位置与所述阵列基板上的栅线位置和数据线位置相对应；

将所述彩膜基板和阵列基板封装成盒，将液晶材料注入盒中。

6.根据权利要求5所述的液晶面板的制造方法，其特征在于，所述辅助隔垫物设置位置与所述阵列基板上的栅线位置和数据线位置相对应具体为：所述辅助隔垫物的上截面贴附在所述彩膜基板的公共电极层上，在将所述彩膜基板和阵列基板封装成盒后，所述辅助隔垫物的下截面覆盖在所述阵列基板的栅线和数据线上。

7.根据权利要求5所述的液晶面板的制造方法，其特征在于，所述辅助隔垫物的材料的介电常数小于液晶层的液晶的介电常数。

8.根据权利要求7所述的液晶面板的制造方法，其特征在于，所述辅助隔垫物的材料的介电常数小于6.46。