[发明专利]光学膜及其制备方法、起偏器和液晶显示装置无效
申请号: | 201110294631.5 | 申请日: | 2011-09-27 |
公开(公告)号: | CN102416734A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | 中山元;筱田克己 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B23/08 | 分类号: | B32B23/08;B32B23/20;B32B27/28;C08J5/18;G02B1/04;G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 于辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 及其 制备 方法 起偏器 液晶 显示装置 | ||
1.光学膜,其具有:
芯层,其包含具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸树脂,和
外层,其包含乙酸纤维素酯,位于所述芯层的至少一侧上并具有大于3μm-20μm的厚度。
2.根据权利要求1所述的光学膜,所述光学膜具有三层,其中在所述芯层的两侧上各形成外层。
3.根据权利要求1所述的光学膜,其中所述芯层的厚度为10-100μm。
4.根据权利要求1所述的光学膜,其中所述外层的总厚度占所述膜的总厚度的比例为2-40%。
5.根据权利要求1所述的光学膜,其具有-3.0×10-12Pa-1至3.0×10-12Pa-1的光弹性系数。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的光学膜,其中所述芯层中的残余溶剂量为至少0.004质量%。
7.根据权利要求1-5中任一项所述的光学膜,其中所述内酯环结构由下式(1)表示:
其中R1、R2和R3彼此独立地是氢原子或具有1-20个碳原子的有机残基。
8.根据权利要求1-5中任一项所述的光学膜,其中在所述具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸树脂结构中,由式(1)表示的内酯环结构的含量为5-90重量%。
9.根据权利要求1-5中任一项所述的光学膜,其中所述丙烯酸树脂的重均分子量为至少80000。
10.根据权利要求1-5中任一项所述的光学膜,其中所述具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸树脂的玻璃化转变温度不低于115℃。
11.根据权利要求1-5中任一项所述的光学膜,其中所述纤维素酰化物树脂满足以下条件:
2.5≤TA-总≤3.0
2.4≤TA2≤3.0
0.0≤TA3≤0.1
其中TA-总表示酰基的总取代度,TA2表示具有2个碳原子的酰基的取代度,并且TA3表示具有3-7个碳原子的酰基的取代度。
12.制备光学膜的方法,其包括:
根据共流延方法,从流延基材侧按(A)-(B)的顺序将涂料(A)和涂料(B)同时流延在所述流延基材上,涂料(A)包含纤维素酰化物和有机溶剂,涂料(B)包含具有内酯环结构的(甲基)丙烯酸树脂和有机溶剂,和
去除所述有机溶剂,
其中控制涂料(A)的流延厚度,使得涂料(A)的干厚度可以是大于3μm-20μm。
13.根据权利要求12所述的制备光学膜的方法,其中根据共流延方法,从所述流延基材侧按(A)-(B)-(A)的顺序,将涂料(A)和涂料(B)同时流延在流延基材上。
14.根据权利要求12或13所述的制备光学膜的方法,其中控制涂料(A)的复数粘度ηA和涂料(B)的复数粘度ηB,使其满足下式(I)的关系:
式(I)ηA≤ηB。
15.根据权利要求12或13所述的制备光学膜的方法,其中涂料(A)和涂料(B)在25℃的复数粘度均为10-80Pa·s。
16.根据权利要求12或13所述的制备光学膜的方法,其中涂料(A)中的固体浓度为15-25质量%。
17.光学膜,其根据权利要求12-16中任一项所述的方法制备。
18.起偏器,其具有偏振元件和根据权利要求1-11中任一项所述的光学膜。
19.液晶显示装置,其具有根据权利要求1-11中任一项所述的光学膜。
20.根据权利要求19所述的液晶显示装置,其是IPS-模式的装置。
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