[发明专利]一种非均匀介质基板的制备方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及超材料基板的制造加工技术领域，特别涉及一种非均匀介质基板的制备方法。

【背景技术】

近年来，随着雷达探测、卫星通信、航空航天等高新技术的快速发展，以及抗电磁干扰、隐形技术、微波暗室等研究领域的兴起，微波吸收材料的研究越来越受到人们的重视。超材料可以现出非常奇妙的电磁效应，可用于吸波材料和隐形材料等领域，成为吸波材料领域研究的热点。

超材料的性质和功能主要来自于其内部的结构，如何精确制备具有周期排列的三维精细结构成为超材料制备技术的关键。超材料的加工过程主要是将带有金属微结构阵列的PCB基板叠层在一起，各层基板之间填充其他介质。但是传统的PCB基板大多为均匀介质基板，难以满足对介质基板电磁特性的需求。

【发明内容】

本发明所要解决的技术问题是提供一种非均匀多孔介质基板的制备方法，能够降低制备非均匀介质基板工艺流程的复杂度，提高制备效率。

为解决上述技术问题，本发明一实施例提供了一种非均匀介质基板的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：

配置预设浓度的树脂溶液；

将所述树脂溶液涂敷在无纺布的上表面，形成一层液膜；

将上表面具有液膜的无纺布通过滚轴带入具有第一温度的第一水槽中，位于该第一水槽上方的第二水槽向下喷射温度从无纺布中心到边缘依次变化的水；

从第一水槽取出所述液膜，置于干燥烘箱干燥后获得非均匀介质基板。

与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点：以无纺布作为支撑，将树脂溶液涂敷在表面形成液膜，然后用滚轴将该液膜带入水温为常温的第一水槽中，与此同时，该第一水槽上方的第二水槽向下喷射温度从无纺布中心至边缘依次变化的水，通过水蒸气带走液膜中可溶于水的有机溶剂，从而在液膜上形成孔，将该液膜干燥后获得具有多孔的非均匀介质基板，制备工艺简单。并且能够满足对介质基板电磁特性的需求。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是本发明实施例一提供的一种非均匀介质基板的制备方法流程图；

图2是本发明实施例一提供的一种非均匀介质基板的制备方法流程图；

图3是本发明实施例一提供的一种非均匀介质基板的制备方法流程图；

图4是本发明实施例提供的一种非均匀介质基板的结构示意图。

【具体实施方式】

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一、

参见图1，是本发明实施例一提供的一种非均匀介质基板的制备方法流程图，该制备方法包括：

S11：配置预设浓度的树脂溶液。

其中，该预设浓度的树脂溶液为聚砜(PSF/PSU)溶液；或者聚偏氟乙烯(PVDF)溶液。聚砜溶液的浓度为15-20％；聚偏氟乙烯溶液的浓度为10-20％。

S12：将树脂溶液涂敷在无纺布的上表面，形成一层液膜。

其中，该无纺布为具有预设宽度的连续介质层。

S13：将上表面具有液膜的无纺布通过滚轴带入具有第一温度的第一水槽中，与此同时该第一水槽上方的第二水槽向下喷射温度从无纺布中心到边缘依次变化的水。

其中，第二水槽向下喷射水温度变化范围为10-52℃；第一温度为常温。

其中，膜液在第一水槽中位于水面下方0.2-1mm的位置。

S14：取下液膜，置于干燥烘箱干燥后获得非均匀介质基板。

其中，干燥烘箱的温度为40-60℃。

其中，获得的非均匀介质基板的介电常数在0.9-1.5之间；液膜的厚度在0.06-0.2mm之间；孔径的大小在60-900nm之间，在具体的实施过程中，根据对介质基板电磁特性的要求，选择对应的液膜厚度和孔径大小。