[发明专利]一种非均匀介质基板的制备方法无效
| 申请号： | 201110293880.2 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102477164A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;金曦;张影 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院 |
| 主分类号： | C08J9/28 | 分类号： | C08J9/28;C08J5/18;C08L81/06;C08L27/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 介质 制备 方法 | ||
1.一种非均匀介质基板的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：
配置预设浓度的树脂溶液；
将所述树脂溶液涂敷在无纺布的上表面，形成一层液膜；
将上表面具有液膜的无纺布通过滚轴带入具有第一温度的第一水槽中，位于该第一水槽上方的第二水槽向下喷射温度从无纺布中心到边缘依次变化的水；
从第一水槽取出所述液膜，置于干燥烘箱干燥后获得非均匀介质基板。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述树脂溶液为聚砜溶液或者聚偏氟乙烯溶液。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述聚砜溶液的浓度为15-20％。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述聚偏氟乙烯溶液的浓度为10-20％。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无纺布为具有预设宽度的连续介质层。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第二水槽与第一水槽等宽等长。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第二水槽向下喷射温度从无纺布中心到边缘依次变化的水的范围为10-52℃；所述第一温度为常温。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述膜液在第一水槽中位于水面下方0.2-1mm的位置。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述干燥烘箱为鼓风干燥烘箱。
10.根据权利要求1或者7所述的制备方法，其特征在于，所述干燥烘箱的温度为40-60℃。
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