[发明专利]干燥基板的方法和使用该方法制造图像显示装置的方法无效

专利信息
申请号: 201110264490.2 申请日: 2011-09-08
公开(公告)号: CN102435051A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 内海一成 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: F26B5/00 分类号: F26B5/00;F26B21/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 卜荣丽
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 干燥 方法 使用 制造 图像 显示装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种通过将气体吹送到基板上来干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法,特别地涉及一种使用气刀来干燥基板的方法。

背景技术

在例如平板显示器的图像显示装置中,由抗蚀剂膜形成玻璃基板上的电路图案等。在抗蚀剂膜形成之后,有必要对抗蚀剂膜进行诸如显影的化学液体处理,在化学液体处理之后通过使用冲洗水(纯水)冲洗基板,然后干燥基板。

对于基板的一系列处理通常是当在一个室中通过诸如辊传送器的移动单元移动基板的同时进行,所述处理包括化学液体处理、冲洗和干燥。

日本专利申请公开No.2003-133217公开了气刀通常被使用来干燥基板,干燥空气通过气刀被同时吹送到基板的上表面和下表面上,从而将冲洗水从基板的表面吹掉并移除,气刀由一对上气刀和下气刀形成,气刀的布置和空气的流速应该严格垂直对称。在上述一系列处理中,放置基板,以使得其上形成有抗蚀剂图案的表面变为上表面。

已知的是,当基板被干燥时,如果干燥空气被太强烈地吹送到基板的上表面上,则发生抗蚀剂图案的破坏,日本专利申请公开No.2007-149987公开了这样一种技术,该技术吹送干燥空气,然后吹送热空气到基板上来结束干燥,以防止抗蚀剂图案的破坏。日本专利申请公开No.2007-144314公开了一种通过设计喷嘴的形状来用少量空气干燥基板的技术。

以下将参照附图对上述的抗蚀剂图案的破坏现象进行描述。图10A和10B示意性地示出当通过使用气刀将干燥空气吹送到基板上时发生的抗蚀剂图案破坏的状态。图10A是从基板的上侧观看的基板的平面图(plan view),图10B是从横向方向观看的基板的侧视图。抗蚀剂表面难溶层9的剥离发生在与从气刀供给的空气的方向相同的方向上,剥离部分9a沉积在抗蚀剂图案8上以形成条带形缺陷10。抗蚀剂表面难溶层9是指这样的层,即,由于由未曝光抗蚀剂的表面与显影剂(例如TMAH(四甲基氢氧化铵)的水溶液)接触而引起的树脂和感光剂的偶氮偶合反应,而导致未曝光抗蚀剂的表面变为在TMAH的水溶液中难溶。已知的是,抗蚀剂表面难溶层9通常被形成为具有从抗蚀剂9b的表面起的50-200nm的厚度。

已知的是,当基板经过气刀时,条带形缺陷10仅发生在基板的端部区域3中。这里,基板的端部区域3是指就从基板的上表面(其上形成有抗蚀剂图案的表面)的顶侧的端部21测量的距离而言大约10-20mm的范围。当有效图案区域22存在于端部区域3中时,如果这样的缺陷发生在有效图案区域22中,则缺陷导致引起产量的降低。这里,有效图案区域22是指这样的区域,在该区域中,具有固定厚度的抗蚀剂膜形成在基板的表面上并且可形成图案,有效图案区域22通常是指在距基板的端部固定距离的内侧中的区域。抗蚀剂膜的厚度在有效图案区域22的外侧不固定的原因包括当用旋涂法涂布抗蚀剂时基板的端部中的表面张力的影响和当用狭缝涂布法涂布抗蚀剂时涂布操作的开始时间和结束时间中的抽吸操作的不稳定性。

条带形缺陷由冲洗液的雾与基板表面的碰撞形成,所述冲洗液的雾是在当用气刀干燥端部区域3时形成并经过了干燥空气。专利文档2和3中所述的方法难以防止基板的端部区域3中的抗蚀剂表面难溶层9剥离并再沉积到抗蚀剂图案8上,并且这些方法难以解决上述问题。

本发明的目的是提供一种干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法,所述干燥基板的方法可抑制条带形缺陷的发生,所述条带形缺陷由基板的端部区域中的、被吹送的气体剥离的抗蚀剂表面难溶层的再沉积形成。

发明内容

根据本发明的一方面,一种通过吹送气体来干燥基板的方法,所述基板在包括所述基板的上表面的端部区域在内的所述上表面上涂布有抗蚀剂,在抗蚀剂的表面上涂布有表面难溶层,然后被冲洗,所述方法包括以下步骤:从位于虚拟平面上方的上吹送部分斜向下地将第一气流供给到基板上以用于干燥基板,所述虚拟平面包括位于基板的厚度中心的中心平面;从位于虚拟平面下方的下吹送部分斜向上地将第二气流供给到基板上以用于干燥基板,同时相对移动基板与上吹送部分和下吹送部分,以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间;和控制第一气流和第二气流,以使得第二气流在与所述虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在与所述虚拟平面垂直的向下方向上的速度分量小。

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