[发明专利]基于弯曲通道二次流的气膜孔有效

专利信息
申请号: 201110262922.6 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102312683A 公开(公告)日: 2012-01-11
发明(设计)人: 康顺;梁俊宇;王晓东;孟宝宝;翟丽娜 申请(专利权)人: 华北电力大学
主分类号: F01D5/18 分类号: F01D5/18;F02C7/18
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 张文宝
地址: 102206 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 弯曲 通道 二次 气膜孔
【权利要求书】:

1.基于弯曲通道二次流的气膜孔,其特征在于,该气膜孔包括弯曲通道段(4)和直通道段(5)两部分;其中,所述弯曲通道段(4)为圆弧,是由气膜孔进口(3)朝冷却气流的来流的方向做出弯曲而形成的,弯曲通道段(4)的圆心角B的范围为10°至90°,弯曲通道段(4)的轴线的曲率半径R大于或等于所处位置的壁厚;所述直通道段(5)与气膜表面之间形成的射流倾角A的范围为30°至120°;所述气膜孔的弯曲通道使冷却气流产生二次流动,所形成的通道涡离开气膜孔后,在高温气流的横向推动下发生弯曲,具有与肾型涡相反的旋向,提高冷却效率。

2.根据权利要求1所述的基于弯曲通道二次流的气膜孔,其特征在于,所述气膜孔位于叶片的前缘处、叶片的吸力面或压力面上。

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