[发明专利]一种双通道差分偏振干涉成像光谱仪有效

专利信息
申请号: 201110260041.0 申请日: 2011-09-05
公开(公告)号: CN102297722A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 张淳民;穆廷魁;高宏文;任文艺;代海山 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01J3/45 分类号: G01J3/45;G02B27/28
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 田洲
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 双通道 偏振 干涉 成像 光谱仪
【权利要求书】:

1.一种双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:包括沿入射光方向依次设置的准直透镜(2)、渥拉斯顿棱镜(3)、萨瓦尔偏光镜(4)、线偏振器(5)、成像透镜(6)、面阵探测器(7)、连接导线(8)及计算机处理系统(9);

其中目标(1)发出的光经准直透镜(2)准直后,被渥拉斯顿棱镜(3)在垂直于纸平面的方向内,角向剪切为振动方向正交的平行分量(I)和垂直分量(II);其中平行分量(I)被萨瓦尔偏光镜(4)在纸平面内横向剪切为两束振幅相等、振动方向正交的线偏振光,经线偏振器(5)后变成沿其偏振化方向的两束线偏振光,成像透镜(6)将它们会聚于面阵探测器(7)的一侧,产生平行分量的干涉图像;而垂直分量(II)也被萨瓦尔偏光镜(4)在纸平面内横向剪切为两束振幅相等、振动方向正交的线偏振光,经线偏振器(5)后变成沿其偏振化方向的两束线偏振光,成像透镜(6)将它们会聚于面阵探测器(7)的另一侧,产生垂直分量的干涉图像;面阵探测器(7)同时获取目标的平行分量和垂直分量的干涉图像;利用时空混合窗扫技术即可获得目标的平行分量和垂直分量的完整序列干涉图像;经连接导线(8)输入计算机处理系统(9)进行傅里叶变换处理,便可得到目标的平行分量和垂直分量的光谱强度;利用图像融合算法即可得到目标的平行分量和垂直分量的光谱图像;两光谱图像之差即为目标的差分偏振光谱图像;两光谱图像之差与两光谱图像之和的比值即为目标的线偏振度光谱图像。

2.根据权利要求1所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述渥拉斯顿棱镜(3)的主截面与萨瓦尔偏光镜(4)的主截面与成45°角。

3.根据权利要求1所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述线偏振器(5)的偏振方向与从渥拉斯顿棱镜(3)出射的平行分量(I)的偏振方向平行。

4.根据权利要求1所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述线偏振器(5)的偏振方向与从渥拉斯顿棱镜(3)出射的垂直分量(II)的偏振方向正交。

5.根据权利要求1所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述面阵探测器(7)放置于成像透镜(6)的焦平面上。

6.根据权利要求1所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述目标的平行分量的干涉图像由公式(1)表示:

I1=B||(σ)[1+cos(2πσd·y/f)]/2        (1);

所述获得的目标的垂直分量的干涉图像由公式(2)表示:

I2=B(σ)[1-cos(2πσd·y/f)]/2        (2);

其中B||(σ)和B(σ)分别是入射光的平行分量和垂直分量的光谱强度,σ是入射光的波数,d是由萨瓦尔偏光镜产生的横向剪切量,y是面阵探测器在y轴方向的坐标位置,f是成像透镜(6)的焦长。

7.根据权利要求6所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:根据公式(1)和(2)分别对目标的平行分量的干涉图像和目标的垂直分量的干涉图像进行傅里叶变换和图像融合处理,即得到目标的平行分量和垂直分量的光谱图像B||(σ)和B(σ)。

8.根据权利要求7所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述目标的差分偏振光谱图像由公式(3)获得:

I=B||(σ)-B(σ)                    (3);

其中I为目标的差分偏振光谱图像;B||(σ)和B(σ)为目标的平行分量和垂直分量的光谱图像。

9.根据权利要求7所述的双通道差分偏振干涉成像光谱仪,其特征在于:所述目标的线偏振度图像由公式(4)获得:

P=B||(σ)-B(σ)B||(σ)+B(σ)---(4);]]>

其中P为目标的线偏振度,B||(σ)和B(σ)为目标的平行分量和垂直分量的光谱图像。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110260041.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top