[发明专利]一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法无效
| 申请号： | 201110229968.8 | 申请日： | 2011-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN102359974A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 张涛 | 申请（专利权）人： | 上海华碧检测技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/225 | 分类号： | G01N23/225;G01N1/28;G01N1/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200433 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 获取 清晰 聚焦 离子束 加工 截面 图像 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：
A、将需要进行分析的样品置于聚焦离子束仪中进行截面切抛加工，得到样品截面；
B、将样品从聚焦离子束仪中取出，使用腐蚀液对样品进行截面腐蚀；
C、将样品截面进行冲洗和吹干；
D、将样品放入场发射电子显微镜中，找到截面后倾斜30°～45°，进行截面的二次电子像观察，获得高清晰的聚焦离子束截面样品图像。
2.根据权利要求1所述的一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法，其特征在于：所述步骤B中腐蚀液为BOE药液或者按照HF：H2O=1：10的体积比配制的药液。
3.根据权利要求2所述的一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法，其特征在于：所述HF的浓度为49%。
4.根据权利要求1或者2所述的一种获取高清晰聚焦离子束加工截面图像的方法，其特征在于：所述步骤B中腐蚀液对样品进行腐蚀的时间为3～6秒。
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