[发明专利]一种大功率GaN基发光二极管结构及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110211374.4 申请日: 2011-07-27
公开(公告)号: CN102903818A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 吴东海;李志翔 申请(专利权)人: 南通同方半导体有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/42;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 大功率 gan 发光二极管 结构 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种大功率GaN基发光二极管结构,它包括衬底(11)和在衬底(11)上依次外延生长的N型氮化镓层(121)、有源发光层(122)、P型氮化镓层(123),P型氮化镓层(123)的上方为透明导电层(13),透明导电层(13)上的一端置有P型电极(141),N型氮化镓层(121)上、与P型电极(141)相对的另一端置有N型电极(142);其特征在于,所述透明导电层(13)分隔成为多个小面积的导电层块(131),各导电层块(131)之间用金属电极(132)连接起来并且都连接到P型电极(141)。

2.根据权利要求1所述的大功率GaN基发光二极管结构,其特征在于,所述导电层块(131)形状为正方形、长方形、平行四边形或者以及其它任意形状的小面积结构。

3.一种大功率GaN基发光二极管结构的制作方法,其步骤为:

1)在衬底(11)上用金属有机化合物化学气相淀积技术分别外延生长N型氮化镓层(121)、有源发光层(122)和、P型氮化镓层(123);

2)利用光刻和干法刻蚀技术刻蚀出N型接触氮化镓区;

3)利用光刻和蒸发的方法在P型氮化镓层(123)上制备透明导电层(13);

4)利用刻蚀技术将大面积的透明导电层(13)分隔成为多个小面积的导电层块(131);

5)利用光刻和蒸发的方法制备P型电极(141)和N型电极(142),并制备金属电极(132)将各导电层块(131)之间连接起来与P型电极(141)相接;

6)将蓝宝石衬底(11)从背面进行减薄,并将大功率GaN基发光二极管沿设计好的分割道分割成单个管芯。

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