[发明专利]用于空气断路器的具有爬电表面的活动密封件无效
申请号: | 201110209464.X | 申请日: | 2011-06-16 |
公开(公告)号: | CN102412091A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | B·J·沙尔滕布兰德;M·A·亚努塞克;R·W·米勒;J·M·斯米尔泽;W·M·兰德尔 | 申请(专利权)人: | 伊顿公司 |
主分类号: | H01H33/70 | 分类号: | H01H33/70;H01H33/91 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 吴鹏;马江立 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 空气 断路器 具有 表面 活动 密封件 | ||
1.一种活动密封件,包括:
密封部分,所述密封部分具有爬电表面,当所述密封部分配合在包封有第一断路器触点和第二断路器触点的电弧室中时,该爬电表面定位于所述第一断路器触点和第二断路器触点之间;
所述爬电表面具有一表面廓形,所述表面廓形相对于所述第二断路器触点与载运所述第一断路器触点的触点支架之间的直线距离增大所述第二断路器触点与所述触点支架之间的电弧行进路径的长度。
2.根据权利要求1所述的活动密封件,其特征在于,还包括:
致动部分,所述致动部分构造成与所述触点支架共同作用,其中所述触点支架可操作以使第一断路器触点与第二断路器触点分离,另外所述电弧室是基本封闭的,并且当触点支架将所述第一断路器触点载离所述第二断路器触点时在所述第一断路器触点与第二断路器触点之间形成一入口;
以及其中,所述密封部分构造成配合在所述入口内以密封所述入口,使得所述爬电表面限定所述电弧室的一部分;并且
其中,所述致动部分可响应于所述触点支架将所述第一断路器触点载离所述第二断路器触点而操作,以将所述密封部分选择性地定位在所述入口中。
3.根据权利要求1所述的活动密封件,其特征在于,所述爬电表面具有基本凹形的表面廓形。
4.根据权利要求1所述的活动密封件,其特征在于,所述爬电表面包括单个凹槽。
5.根据权利要求1所述的活动密封件,其特征在于,所述爬电表面包括多个并行的凹槽。
6.一种断路器,包括:
基本封闭的电弧室,所述电弧室包封有一对可分离触点组件,所述电弧室包括在所述可分离触点组件分离时形成在所述一对可分离触点组件之间的入口;
活动密封件,所述活动密封件构造成配合在所述入口内,以封闭所述入口并限定所述电弧室的一部分;以及
其中,所述活动密封件包括爬电表面,当所述活动密封件配合在所述入口中时所述爬电表面定位在所述一对可分离触点组件之间;所述爬电表面具有一表面廓形,所述表面廓形相对于可分离触点组件之间的直线距离增大可分离触点组件之间的电弧行进路径的长度。
7.根据权利要求6所述的断路器,其特征在于,所述爬电表面具有基本凹形的表面廓形。
8.根据权利要求6所述的断路器,其特征在于,所述爬电表面包括单个凹槽。
9.根据权利要求6所述的断路器,其特征在于,所述爬电表面包括多个并行的凹槽。
10.一种断路器设备,所述断路器设备包括用于提供爬电表面的装置,所述爬电表面在一对可分离触点组件分离时定位在该对触点组件之间;所述爬电表面具有一表面廓形,所述表面廓形相对于所述可分离触点组件之间的直线距离增大所述可分离触点组件之间的电弧行进路径的长度。
11.根据权利要求10所述的设备,其特征在于,所述爬电表面具有基本凹形的表面廓形。
12.根据权利要求10所述的设备,其特征在于,所述爬电表面包括单个凹槽。
13.根据权利要求10所述的设备,其特征在于,所述爬电表面包括多个并行的凹槽。
14.根据权利要求10所述的设备,其特征在于,所述用于提供爬电表面的装置包括活动密封件。
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