[发明专利]位置控制系统、光刻设备以及控制可移动物体的位置的方法有效
申请号: | 201110200301.5 | 申请日: | 2011-07-18 |
公开(公告)号: | CN102346492A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 威廉姆斯·F·J·西蒙斯;N·J·M·范德纽维拉尔;马赛尔·弗兰克斯·赫尔特杰斯;J·J·H·吉利斯;F·B·J·W·M·亨德里克斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G05D3/12 | 分类号: | G05D3/12;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 位置 控制系统 光刻 设备 以及 控制 移动 物体 方法 | ||
1.一种位置控制系统,用于控制与可移动物体的位置相关的量,所述位置控制系统包括:
位置测量系统,配置成确定与所述可移动物体的实际位置相关的量;
设定点产生器,配置成提供与所述可移动物体的位置相关的设定点信号;
比较器,配置成基于所述与实际位置相关的量和所述与位置相关的设定点信号的比较提供误差信号;
控制器,配置成基于所述误差信号提供控制信号;
前馈装置,配置成基于所述与位置相关的设定点信号提供前馈信号;和
致动器,配置成基于所述控制信号和所述前馈信号作用于所述可移动物体,
其中所述前馈装置包括干扰力校正表,所述干扰力校正表包括依赖于所述可移动物体的位置对施加到所述可移动物体上的干扰力的估计值。
2.根据权利要求1所述的控制系统,其中所述控制信号布置成提供所述误差信号给所述干扰力校正表,用于更新干扰力的估计值。
3.根据权利要求1或2所述的控制系统,其中所述干扰力校正表包括对于所述可移动物体的路线中的干扰力的估计值。
4.根据权利要求3所述的控制系统,其中所述干扰力校正表包括对于所述路线中的多个位置的干扰力的估计值,其中在所述位置中的一个位置处的干扰力的每一估计值是基于名义参数设定的。
5.根据权利要求4所述的控制系统,其中所述前馈装置包括参数校正装置,所述参数校正装置配置成对于所述路线中的多个位置中的一个上的名义参数设定和实际参数之间的差别来校正所述干扰力校正表的值。
6.根据权利要求3所述的控制系统,其中所述可移动物体是光刻设备中的衬底支撑件,且其中所述路线是所述衬底支撑件的扫描路线。
7.根据权利要求6所述的控制系统,其中所述扫描路线包括多个扫描运动和在两个连续的扫描运动之间进行的至少一个转移运动,其中所述干扰力校正表主要包括在所述扫描运动中的干扰力的估计值。
8.根据权利要求1所述的控制系统,其中所述前馈装置包括转移运动补偿装置,所述转移运动补偿装置配置成在所述转移运动期间将所述前馈装置的输出信号从与前一扫描运动的最后位置相关的值逐渐地改变成与下一扫描运动的最初位置相关的值。
9.根据权利要求1所述的控制系统,其中所述前馈装置包括转移运动补偿装置,所述转移运动补偿装置配置成将所述前馈装置的输出信号从与在所述干扰力校正表中已知的位置相关的值逐渐地改变成与在所述干扰力校正表中已知的下一位置相关的值。
10.一种光刻设备,包括:
照射系统,配置成调节辐射束;
图案形成装置支撑件,配置成支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束;
衬底支撑件,构造成保持衬底;
投影系统,配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上;和
位置控制系统,配置成控制所述光刻设备中的可移动物体的位置相关量,所述位置控制系统包括:
位置测量系统,配置成确定所述可移动物体的实际位置相关量,
设定点产生器,配置成提供所述可移动物体的位置相关的设定点信号;
比较器,配置成基于所述实际位置相关量与所述位置相关的设定点信号的比较来提供误差信号,
控制器,配置成基于所述误差信号提供控制信号,
前馈装置,配置成基于所述位置相关的设定点信号提供前馈信号,和
一个或更多的致动器,用于基于所述控制信号和所述前馈信号作用于所述可移动物体,
其中所述前馈装置包括干扰力校正表,所述干扰力校正表包括依赖于所述可移动物体的位置对施加到所述可移动物体上的干扰力的估计值。
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