[发明专利]激光辐照设备

权利要求书

1.一种激光辐照设备，沿扫描方向向包括多个像素区域的半导体层提供激光束，所述激光辐照设备包括：

至少一个激光掩膜，包括分别与所述多个像素区域的部分面对的多个狭缝组；以及

激光发生器，产生穿过所述至少一个激光掩膜的所述多个狭缝组的所述激光束。

2.根据权利要求1所述的激光辐照设备，其中所述半导体层的所述多个像素区域中的每一个被划分成结晶区域和非结晶区域，所述结晶区域和所述非结晶区域沿所述扫描方向交替布置。

3.根据权利要求2所述的激光辐照设备，其中所述结晶区域在各个像素区域中位于相同位置。

4.根据权利要求2所述的激光辐照设备，其中所述多个狭缝组对应于所述半导体层的所述结晶区域。

5.根据权利要求2所述的激光辐照设备，其中所述多个狭缝组之间的间隙相等，并且与所述半导体层的所述非结晶区域的在所述扫描方向上的长度成比例。

6.根据权利要求5所述的激光辐照设备，其中所述多个狭缝组中至少之一包括具有与所述扫描方向平行的长轴的多个狭缝。

7.根据权利要求6所述的激光辐照设备，其中在所述半导体层的所述结晶区域中平行于所述扫描方向形成有结晶突起。

8.根据权利要求6所述的激光辐照设备，其中所述多个狭缝组中至少之一包括：

与所述扫描方向垂直的方向上的多个第一狭缝；以及

与所述扫描方向垂直的方向上的多个第二狭缝，所述多个第一狭缝和所述多个第二狭缝在尺寸上相等，并且所述多个第一狭缝和所述多个第二狭缝沿所述扫描方向彼此相邻，且彼此偏移狭缝宽度的1/2。

9.根据权利要求8所述的激光辐照设备，其中所述多个第一狭缝和所述多个第二狭缝的侧边在两端处逐渐变窄为倾斜的形状。

10.根据权利要求5所述的激光辐照设备，其中所述多个狭缝组中至少之一包括具有与所述扫描方向垂直的长轴的多个狭缝。

11.根据权利要求10所述的激光辐照设备，其中在所述半导体层的所述结晶区域中在与所述扫描方向交叉的方向上形成有结晶突起。

12.根据权利要求1所述的激光辐照设备，其中所述激光发生器包括：

输出第一激光束的第一激光发生器；和

输出第二激光束的第二激光发生器。

13.根据权利要求12所述的激光辐照设备，其中所述第一激光发生器和所述第二激光发生器以预定周期打开/关断所述第一激光束和所述第二激光束的输出。

14.根据权利要求13所述的激光辐照设备，其中所述预定周期与所述第一激光束和所述第二激光束的扫描速度成反比，并且与所述像素区域在所述扫描方向上的长度成正比。

15.根据权利要求14所述的激光辐照设备，其中所述预定周期的一个周期对应于所述像素区域的由所述第一激光束和所述第二激光束沿所述扫描方向辐照的长度。

16.根据权利要求13所述的激光辐照设备，其中所述第一激光束和所述第二激光束中至少之一被输出的时间对应于所述半导体层中所述结晶区域之间沿所述扫描方向的长度，并且所述第一激光束和所述第二激光束中至少之一被关断的时间对应于所述半导体层中所述非结晶区域沿所述扫描方向的长度。

17.根据权利要求16所述的激光辐照设备，其中所述第一激光束和所述第二激光束以一时间间隙顺序输出。

18.根据权利要求12所述的激光辐照设备，其中所述第一激光束和所述第二激光束具有相同的扫描方向。

19.根据权利要求12所述的激光辐照设备，其中当有多于一个激光掩膜时，所述第一激光束和所述第二激光束分别被划分并被导向每个激光掩膜。