[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

真空搬送室，其设置有基板搬送机构，并且被维持为真空环境；

预备真空室，其与该真空搬送室的侧面连接；

用于处理基板的多个处理室，它们以与所述预备真空室在周向分离的方式与所述真空搬送室的侧面连接且相互配置于周向，并且在各个容器主体上设置盖体；

引导部件，其被设置为沿着所述真空搬送室的周向延伸；

移动体，其沿着该引导部件被引导；

盖体保持机构，其以通过该移动体的移动而经过所述处理室的上方的方式设置于该移动体，保持盖体并使该盖体升降，以便相对于所述容器主体装拆盖体；

驱动部，其用于使所述移动体沿着所述引导部件移动。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述盖体上设置有在横向延伸、包括在下方形成有空间的卡止部分的被保持部，

在所述盖体保持机构上设置有保持部，该保持部一边沿着所述引导部件移动一边进入所述卡止部分的下方侧的空间，之后上升并从下方侧将所述卡止部分上推来抬起盖体。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述引导部件具备：

内侧引导部件，其设置于所述真空搬送室上或者设置于所述真空搬送室与处理室之间；

外侧引导部件，其设置在相对于所述处理室而与所述真空搬送室相反的一侧。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述真空搬送室的俯视形状形成为多边形，

在所述真空搬送室的侧面当中除了在所述真空搬送室的外方侧用于确保维护区域的侧面之外的其他侧面上，分别连接所述预备真空室和处理室。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述维护区域设置有保持从所述盖体保持机构交接来的盖体并使该盖体反转的盖体反转机构。

6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述真空搬送室具有六个侧面，在所述侧面连接一个所述预备真空室和四个处理室。