[发明专利]一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺无效
| 申请号: | 201110132163.1 | 申请日: | 2011-05-22 |
| 公开(公告)号: | CN102280389A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
| 发明(设计)人: | 赵剑青;杨东鲁;黄浩;赖志伟;钟丁通 | 申请(专利权)人: | 迈士通集团有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/00;C22F1/08 |
| 代理公司: | 厦门原创专利事务所 35101 | 代理人: | 高巍 |
| 地址: | 361015 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 提高 单晶铜键合丝 封装 性能 制备 工艺 | ||
1.一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺,其步骤为:
将单晶铜杆通过拉丝工序后形成直径为0.01mm~0.5mm的细小单晶铜键合丝;
将经过乙醇超声波清洗器洗涤后的单晶铜键合丝作退火软化加工处理,以使单晶铜键合丝获得较高的破断力和延伸率;
将退火后的单晶铜键合丝穿过乙醇冷却槽作急速冷却处理,防止单晶铜键合丝在高温下与空气中的氧气发生氧化反应,减少单晶铜键合丝表面氧化膜的生成,提高单晶铜键合丝的封装性能;
将通过乙醇冷却槽急速冷却后的单晶铜键合丝进行干燥处理;
将干燥后的单晶铜键合丝复绕分卷及真空包装。
2.如权利要求1所述的一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺,其特征是:在乙醇冷却槽前设置退火管,将经过退火管高温退火后的单晶铜键合丝穿过乙醇冷却槽,对退火后的单晶铜键合丝进行急速冷却处理。
3.如权利要求1或2所述的一种提高单晶铜键合丝封装性能的制备工艺,其特征是:乙醇冷却槽的入口端与退火管的出口端间隔设置;在乙醇冷却槽后设置一块吸水毛毡,在吸水毛毡后安装红外快速干燥器;通过毛毡吸水擦拭和红外热干燥对进入复绕分卷工序的单晶铜键合丝表面进行清洁、干燥。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





