[发明专利]离子注入系统及利用该系统的离子注入方法有效
| 申请号: | 201110120191.1 | 申请日: | 2011-05-06 |
| 公开(公告)号: | CN102456530A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
| 发明(设计)人: | 金玄圭;金相洙 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317 |
| 代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 离子 注入 系统 利用 方法 | ||
技术领域
本发明涉及离子注入系统及利用该系统的离子注入方法。
背景技术
薄膜晶体管用作有机发光显示装置或液晶显示装置等平板显示装置的驱动电路。尤其,有源有机发光显示装置在基板上形成薄膜晶体管,在薄膜晶体管上形成有机电流发光器件。
目前,为形成薄膜晶体管等半导体元件,使用用于注入离子的离子注入装置。离子注入装置包括:在腔体内产生离子的离子源部、以及电极部等。离子源部是用于生成欲注入至基板或晶片的离子的部分,是将气体离子化为等离子状态的部分。
由电极部加速在离子源部生成的离子。通过对电极部施加预定的电压,对从离子源部产生的离子进行加速、传输至并注入基板。
发明内容
本发明的主要目的是提供可向大面积基板注入离子、可节省费用的离子注入系统及利用该系统的离子注入方法。
根据本发明一实施例的离子注入系统,用于向基板注入离子,其特征在于,包括:多个离子注入组件,设置成一列,向所述基板注入所述离子;以及移送组件,提供让所述基板在其内部移动的移动通道,使所述基板在所述移动通道内移动;所述离子注入组件向所述基板的部分区域注入所述离子,所述基板向所述移动通道内的第一方向移动,并被所述多个离子注入组件注入所述离子;所述基板向所述第一方向移动后,向与所述第一方向相反的第二方向移动,并被所述多个离子注入组件注入所述离子,所述移送组件包括:多个处理腔室,与所述离子注入组件分别连接,在其内部将释放的所述离子注入于所述基板;返送腔室,变更所述基板的移送方向;支撑物,支撑所述基板;第一移送引导装置,提供移动路径,使得所述支撑物在所述腔室内部以所述第一方向移动;以及第二移送引导装置,提供移动路径,使得所述支撑物在所述腔室内部以所述第二方向移动。
本发明中,所述第一方向和所述第二方向可以不位于同一直线上,而相互平行。
本发明中,所述离子注入组件至所述第一方向之间的距离,可以不同于所述离子注入组件至所述第二方向之间的距离。
本发明中,注入于所述基板的离子总量为,所述基板向第一方向移动时被注入的所述离子的第一注入量以及向所述第二方向移动时可以被注入的所述离子的第二注入量之和。
本发明中,针对所述基板的所述第一注入量可以和所述基板的第二注入量相同。
本发明中,所述返送腔室可以将移送至所述第一移送引导装置的所述支撑物移动至所述第二移送移动引导装置。
本发明中,所述第一移送引导装置将所述支撑物从所述第一腔室移送至所述返送腔室;所述第二移送引导装置将所述支撑物可以从所述返送腔室移送至所述第一腔室。
本发明中,所述移送组件还包括:第一腔室,最初向所述移送组件内载入所述基板,可以向所述移送组件外部卸载所述基板。
本发明中,所述移送组件还包括:第二腔室,设置于所述第一腔室和所述处理腔室之间,从所述第一腔室移送所述基板,可以在其内部维持真空。
本发明中,还包括:机械臂,用于向所述移送组件供给所述基板,或者可以从所述移送组件取出所述基板。
本发明中,所述机械臂,朝所述移送组件的、连接有所述离子注入组件的侧面,将所述基板投入至所述移送组件,或者可以从所述移送组件取出所述基板。
本发明中,所述机械臂,朝所述移送组件的、连接有所述离子注入组件的侧面的相对面,将所述基板投入至所述移送组件,或者可以从所述移送组件取出所述基板。
本发明中,所述机械臂将所述基板倾斜地投入至所述移送组件,所述基板可以相对于地面呈锐角。
本发明中,还包括:法拉第部,设置于所述移送组件内,可以测量从所述离子注入组件释放的离子量。
本发明中,在所述处理腔室的一侧面形成有狭缝,可以用于分别从所述离子注入组件引入离子。
本发明中,所述多个离子注入组件,由所述第一离子注入组件和所述第二离子注入组件形成;所述多个处理腔室,由第一处理腔室和第二处理腔室形成;所述第一离子注入组件与所述第一处理腔室连接,向所述第一处理腔室内释放所述离子;所述第二离子注入组件与所述第二处理腔室连接,可以向所述第二处理腔室内释放所述离子。
本发明中,所述第一离子注入组件向所述基板的下侧部照射离子;所述第二离子注入组件可以向所述基板的上侧部照射离子。
本发明中,所述第一方向是从所述第一处理腔室向所述第二处理腔室的方向;所述第二方向可以是从所述第二处理腔室向所述第一处理腔室的方向。
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