[发明专利]一种封装图案的形成方法有效
| 申请号： | 201110092190.0 | 申请日： | 2011-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102736434A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 张贤亮;孙彬 | 申请（专利权）人： | 颀中科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/38;G03F7/40;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 封装 图案 形成 方法 | ||
1.一种封装图案的形成方法，包括：
a)提供衬底；
b)在所述衬底上旋涂光刻胶的有机溶液，烘干，得到光刻胶膜；
c)预设曝光形状，对所述光刻胶膜进行紫外曝光，得到多个预制体；
d)将步骤c)得到的多个预制体进行烘烤处理；
e)将步骤d)得到的产物进行紫外曝光、烘烤处理和等离子处理。
2.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤b)具体为：
在所述衬底上以5～45r/s的速度旋涂光刻胶的有机溶液，在90～150℃下烘烤2～8分钟，得到光刻胶膜。
3.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤c)中曝光时间为40～120秒，曝光能量为270～450mj/cm2。
4.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤d)中烘烤温度为50～200℃。
5.根据权利要求4所述的形成方法，其特征在于，所述步骤d)中烘烤温度为150～190℃。
6.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤d)中烘烤时间为60～600秒。
7.根据权利要求6所述的形成方法，其特征在于，所述步骤d)中烘烤时间为120～360秒。
8.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤e)中紫外曝光能量为600～900mj/cm2。
9.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤e)中烘烤处理具体为：
将紫外曝光得到的产物在120～150℃下烘烤20～30分钟。
10.根据权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述步骤e)中等离子体处理具体为：
利用氧气的等离子体对所述烘烤处理后的产物轰击0.5～2分钟。
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