[发明专利]蚀刻设备及其控制方法有效

专利信息
申请号: 201110009638.8 申请日: 2011-01-12
公开(公告)号: CN102163543A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 张金良;黄柏文;林志忠 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;尚群
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 设备 及其 控制 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种工艺设备,特别是一种蚀刻设备及其控制方法。

背景技术

在液晶显示板的生产工艺中,有一道工序以蚀刻方式将板片表面无关乎线路的导电金属或非金属溶蚀,以保留线路部份,而目前所实行的,一般为湿蚀刻。

湿蚀刻技术的原理是利用蚀刻液与欲蚀刻薄膜产生的化学反应,首先蚀刻液内的反应物将利用扩散效应通过一层厚度相当薄的边界层,以到达被蚀刻薄膜的表面。在蚀刻工序后,则须以风刀将残留于板片上的蚀刻液予以吹除。

由于是在湿式环境中作业,使得经过蚀刻化学反应而产生蚀刻液的结晶会附着于风刀的刀口上。因此,当进行送风时,结晶会造成风压不均,易将板片表面导电金属膜的光阻剔除,或是结晶完全堵塞风刀的刀口,而降低清除残留于板片的蚀刻液的清洁效果,进而造成产品不良,亟待改善。

因此,面对此风刀口的结晶,通常必须定期予以清除,此项清除作业,一般为每周一次,且须停止蚀刻机,拆解风刀,而清除后再装上风刀重新启动蚀刻机,其所须人力约2至3人,而所花时间为4-5小时,因此,造成人力耗费外,并影响产能。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种无须停机以人力清洗风刀的蚀刻设备及其控制方法。

为了实现上述目的,本发明提供了一种蚀刻设备,包括蚀刻腔室、蚀刻液储存槽、清洁装置以及导电度监控装置。清洁装置具有风刀、第一流体管路、液体泵以及第一阀门,其中风刀设置于蚀刻腔室内,而第一流体管路的一端与风刀连接并相通,另一端则与液体泵连通,此外,第一阀门设置于第一流体管路上。导电度监控装置,分别耦接第一阀门与蚀刻液储存槽,用以监控蚀刻液储存槽内的导电度及控制第一阀门的启闭。藉此,若第一阀门开启时,第一流体管路得以将液体泵的液体导入至蚀刻腔室中设有风刀之处,进而清除风刀上的结晶,无须停机以人力清洗风刀。

为了更好地实现上述目的,本发明还提供了一种蚀刻设备的控制方法,其中蚀刻设备包含一蚀刻腔室与一蚀刻液储存槽,在执行此控制方法时,可先检测蚀刻液储存槽中蚀刻液的导电度,当导电度高于一预定上限值时,将一液体泵的液体导入至蚀刻腔室中设有一风刀之处,然后将流入蚀刻腔室中的液体导入蚀刻液储存槽。藉此,当蚀刻液储存槽内蚀刻液的导电度过高时,液体泵的液体可先用来清洗风刀,再流入蚀刻液储存槽,以将低蚀刻液的浓度,达到一举两得的效果。

本发明的技术效果在于:本发明的第一阀门开启时,第一流体管路得以将液体泵的液体导入至蚀刻腔室中设有风刀之处,进而清除风刀上的结晶,无须停机以人力清洗风刀。另外,当蚀刻液储存槽内蚀刻液的导电度过高时,液体泵的液体可先用来清洗风刀,再流入蚀刻液储存槽,以将低蚀刻液的浓度,达到一举两得的效果。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1是依照本发明一实施例的一种蚀刻设备的示意图;

图2是图1的导电度监控装置的框图;

图3是依照本发明另一实施例的一种蚀刻设备的控制方法的流程图。

其中,附图标记

100蚀刻设备         110蚀刻腔室

120蚀刻液储存槽     130清洁装置

131风刀             132第一流体管路

133液体泵           134第一阀门

136第三阀门         140导电度监控装置

150流体导管         160蚀刻液补充泵

162第二流体管路      164第二阀门

166第四阀门          170第三流体管路

171控制阀            172控制阀

173帮浦              182帮浦

183第四流体管路      184喷嘴

210检测单元          220主控制单元

230导电度检测单元    240计时单元

250驱动单元          260自动切换单元

310-350步骤

具体实施方式

下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作具体的描述:

为了使本发明的叙述更加详尽与完备,可参照附图及以下所述各种实施例,图中相同的号码代表相同或相似的组件。另一方面,众所周知的组件与步骤并未描述于实施例中,以避免对本发明造成不必要的限制。

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