[发明专利]阻气性膜、装置以及阻气性膜的制造方法有效
| 申请号： | 201080053566.0 | 申请日： | 2010-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102639320A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 中津川雄二 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B9/04;B32B27/36;H01L31/042;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气性 装置 以及 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种阻气性膜，其特征在于，含有所含的低聚物量为1质量%以下的塑料膜、在该塑料膜上设置的有机层、和在该有机层上设置的无机层，
所述有机层的厚度比所述塑料膜表面的最大高低差大。
2.一种阻气性膜，其特征在于，含有所含的低聚物量为1质量%以下的塑料膜、在该塑料膜上设置的有机层、和在该有机层上设置的无机层，
所述有机层的厚度为1.7~10μm。
3.如权利要求1或2所述的阻气性膜，所述塑料膜的材质是聚对苯二甲酸乙二醇酯。
4.一种装置，其特征在于，是使用权利要求1～3的任一项所述的阻气性膜的装置，该装置是显示装置或发电装置。
5.一种阻气性膜的制造方法，其特征在于，包含以下工序：
塑料膜准备工序，准备低聚物量为1质量%以下的塑料膜，
有机层形成工序，在所述塑料膜上形成比该塑料膜表面的最大高低差厚的有机层，以及，
无机层形成工序，在所述有机层上形成无机层。
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