[发明专利]光刻设备以及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，布置成将图案从图案形成装置投影到衬底上并且具有照射系统，所述照射系统配置成调节辐射束并将辐射束引导到图案形成装置上，其中照射系统包括：

第一反射部件和第二反射部件，所述第一反射部件布置成将辐射束的辐射引导到第二反射部件上并且包括多个可移动反射元件，每个可移动反射元件能够至少在第一位置和第二位置之间移动以便改变照射模式，第二反射部件与照射系统的光瞳平面相关联；和

控制系统，布置成将多个可移动反射元件设置到各自的期望位置以便实现期望的照射模式，并且进一步布置成在可移动反射元件中的第一个可移动反射元件有缺陷和不能被设置到相应的期望位置的情况下将可移动反射元件中的第二个可移动反射元件设置到与其期望位置不同的校正位置，以便至少部分地缓解可移动反射元件中的第一个可移动反射元件的有害影响。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中控制系统布置成使得可移动反射元件中的第二个可移动反射元件，是在其期望位置上将辐射引导至光瞳平面中的第二点的可移动反射元件，所述第二点与光瞳平面中已经通过可移动反射元件中的第一个可移动反射元件将辐射所引导至的第一点相对置。

3.如权利要求1或2所述的光刻设备，其中控制系统布置成使得在可移动反射元件中的第一个可移动反射元件将辐射引导至光瞳平面中的第一点的情况下，可移动反射元件中的第二个可移动反射元件被设置到校正位置以使得其将辐射引导至光瞳平面中与第一点相对置的第二点。

4.如权利要求2或3所述的光刻设备，其中第二点相对于照射系统的光轴与第一点相对置。

5.如权利要求2或3所述的光刻设备，其中第二点相对于位于光瞳平面中且通过照射系统的光轴的虚拟线与第一点相对置。

6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中控制系统布置成在可移动反射元件中的第一个可移动反射元件引导辐射以便引起第一焦阑误差的情况下，将可移动反射元件中的第二个可移动反射元件设置到校正位置以引导辐射而引起与第一焦阑误差相反的第二焦阑误差。

7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中控制系统布置成在可移动反射元件中的第一个可移动反射元件沿使辐射不到达衬底的方向引导辐射的情况下将可移动反射元件中的第二个可移动反射元件设置到校正位置以使得其引导辐射而使得辐射不到达衬底。

8.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中控制系统还包括：

存储器，配置成存储用于识别有缺陷的可移动反射元件和所述有缺陷的可移动反射元件的缺陷位置的信息；和

比较器，配置成将有缺陷的可移动反射元件的缺陷位置与有缺陷的反射元件的期望位置对比；和

其中控制系统布置成仅在缺陷位置不等同于有缺陷的可移动反射元件的期望位置的情况下将可移动反射元件中的第二个可移动反射元件设置到校正位置。

9.一种用于制造器件的光刻方法，所述方法包括步骤：

将辐射束引导到第一反射部件使得其被第一反射部件反射并入射到第二反射部件，辐射束随后入射到图案形成装置上，并且第一反射部件包括多个可移动反射元件，每个可移动反射元件至少能够在第一位置和第二位置之间移动以便改变图案形成装置的照射模式，

在可移动反射元件中的第一个可移动反射元件有缺陷和不能被设置到期望位置以限定期望的照射模式的情况下，将可移动反射元件中的第二个可移动反射元件设置到与用于限定期望的照射模式的其期望位置不同的校正位置，以至少部分地缓解可移动反射元件中的有缺陷的可移动反射元件的有害影响；

使用图案形成装置对辐射束进行图案化；和

将图案化的辐射束投影到衬底上。

10.如权利要求9所述的光刻方法，其中位于其期望位置的第二可移动反射元件将辐射引导至位于第二反射部件上的第二点，所述第二点与第二反射部件上已经通过第一可移动反射元件将辐射所引导至的第一点相对置。

11.如权利要求9或10所述的光刻方法，其中第一可移动反射元件将辐射引导至第二反射部件上的第一点，并且第二可移动反射元件被设置至校正位置使得其将辐射引导至第二反射部件上与第一点相对置的第二点。

12.如权利要求10或11所述的光刻方法，其中第二点相对于照射系统的光轴与第一点相对置，第一反射部件和第二反射部件形成所述照射系统的一部分。