[发明专利]用于薄的面形的基片的保持装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于薄的面形的基片(Substrate)、例如薄的电路板或所谓的导电箔(Leiterfolie)或太阳能电池的保持装置，其中，有利地利用保持装置输送基片通过处理设备或连续式通过设备(Durchlaufanlage)。

背景技术

例如从文件DE 10 2007 0381 16 A1中已知，将基片(如薄的电路板)利用其前棱边和其后棱边固定在伸长的压板(Bügel)处。之后，该伸长的压板利用其端部固定或悬挂于在连续式通过设备旁边左侧和右侧伸延的输送链处并且由输送链输送。在此，可设置成，压板不仅保持在前方行进的基片的后棱边而且保持在后方行进的基质的前棱边，从而借助于压板形成基片的连续的链。但是在此，问题是，一方面以链的形式将基片夹持在一起(Zusammenspannen)并且另一方面刚性地构造保持压板。

发明内容

因此本发明的目的为，实现开头提及的保持装置，利用其可避免现有技术的问题并且尤其地实现这样的有利的可能性，即，保持以及输送开头提及的基片，确切地说输送通过处理设备、例如连续式通过设备或类似者。

该目的通过带有权利要求1的特征的保持装置实现。本发明的有利的以及优选的设计方案为其它权利要求的对象并且以下将详细进行解释。通过明确参考使权利要求的表述成为说明书的内容。

设置成，用于基片的保持装置整体地构造成框架式的。在两个位于外部的纵向侧处布置有输送滑块(Transportschlitten)，借助于其输送保持装置，尤其地，沿着通过处理设备如连续式通过设备或类似者的区段(Strecke)。如果基片例如为薄的电路板或者同样用于太阳能电池的基片，则在该处理设备中可进行如净化、蚀刻或涂覆、尤其地电化学涂覆的步骤。在输送滑块之间设置有用于基片的保持装置的保持框架，确切地说言基片直接保持或固定在保持框架处。根据本发明，保持框架以高度可变的方式支承在输送滑块处。通过这种高度可变性可能的是，可以说使输送滑块在平面或高度上运动，例如在轨道或环绕的上述的输送链处。通过在其高度上改变或降低保持框架的可能性可实现，在处理设备之外输送基片时可以说其在较高的或最高的位置中。如果带有基片的保持装置驶入处理设备(例如带有用于基片的浸润槽(Tauchbecken))中，则可使保持框架连同基片降下，直至其至少利用其下侧接触在浸润槽中的处理介质，确切地说，由处理介质湿润。尤其地，完全地降下和沉入也是可能的。因此可避免，必须使整个保持装置连同输送滑块、尤其地使输送装置(例如轨道或输送链)降下或向下引导，这通常带来高的成本。

有利地，高度可变性可或者以一定的等级或者但是尤其有利地以无级的方式变化。可实现的高度变化的程度可在几厘米的范围中，例如5cm至15cm，或者在保持装置的宽度的约10％至30％。过大的高度可变性带来对于机械的设计增加的成本。

一方面，可如此构造在输送滑块处的保持框架的高度可变的支承，即，仅仅在垂直于保持框架的平面的方向上或垂直于输送方向或输送平面的方向上可发生在两者之间的相对运动。由此，可避免在保持框架中基片的可能的过大的或有害的过载。可容易地通过相应地构造用于连接保持框架和输送滑块的接头(Gelenk)实现这种准确地预定的运动，以下还将更准确地对其进行阐述。

另一方面且有利地，可能的是，在保持框架相对于输送滑块相对运动时(例如从最大降下的位置到最大抬起的位置或输送位置中，其中，在两个提及的位置中基片平行于输送平面)，在这些位置之间运动期间产生倾斜，例如利用后部区域强度更大地向下倾斜。角度可较小，最大20°至30°。由此，可能可使在浸润槽中基片与处理液体的表面分离更加容易。此外，例如在基片完全沉入时可通过倾斜的区域简化处理液体的流出，这主要减小通过位于其上的处理液体引起的负载确切地说其重力。简单地通过相应地构造在保持框架和输送滑块(其共同形成保持装置)之间的接头连接，这种短暂的斜置是可能的并且同样对于本领域技术人员来说是已知的。在此，也可从外部预定强制引导以针对连同基片的保持框架的位置。

在本发明的设计方案中可如此构造输送滑块，即，其具有滚轮以用于尤其地在轨道上的以行驶方式的输送。因此，在通过轨道(Durchlaufbahn)处可布置有左侧的和右侧的轨道，分别一个输送滑块(即，左侧的输送滑块和右侧的输送滑块)在其上行驶。这些输送滑块可相互连接(例如以框架的形式)，或者备选地也可为独立的，确切地说不相关，即，为两个独立的部件。