[发明专利]曝光装置、曝光方法以及设备制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其经由被第一支撑部件支撑的光学系统利用能量束将物体曝光，所述装置包括：

可移动体，其固持所述物体并可沿预定平面移动；

引导表面形成部件，其形成所述可移动体沿所述预定平面移动时使用的引导表面；

第二支撑部件，其经由所述引导表面形成部件与所述引导表面形成部件分开设置在所述光学系统的相对侧，并且其与所述第一支撑部件的位置关系维持在预定状态；

位置测量系统，其包括第一测量部件，该第一测量部件利用测量束照射与所述预定平面平行的测量表面并且从所述测量表面接收光，并且所述位置测量系统基于所述第一测量部件的输出获得所述可移动体在所述预定平面内的位置信息，所述测量表面布置在所述可移动体和所述第二支撑部件中的一个处并且所述第一测量部件的至少一部分布置在所述可移动体和所述第二支撑部件中的另一个处；以及

倾斜测量系统，其获得所述可移动体相对于所述预定平面的倾斜信息。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，所述装置还包括：

驱动系统，其基于所述位置测量系统获得的位置信息和关于由所述可移动体的倾斜造成的位置误差的校正信息，驱动所述可移动体。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

计算装置，其基于所述倾斜信息和所述测量平面与所述物体的表面在垂直于所述预定平面的方向上的位置的差，计算第一位置误差校正信息作为所述校正信息。

4.根据权利要求2和3之一所述的曝光装置，所述装置还包括：

控制装置，其基于所述位置信息和所述倾斜信息而使所述可移动体以多个不同的姿势变化，在维持各姿势的同时在与所述预定平面垂直的方向上的不同位置处获得所述可移动体在所述预定平面内的位置信息，并且基于所述位置信息，根据与所述可移动体的基准状态的姿势变化来作成第二位置误差校正信息作为所述校正信息。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，

所述第二支撑部件是与所述预定平面平行地设置的梁状部件，所述装置还包括：

测量设备，其测量所述第二支撑部件的变化信息；以及

计算设备，其基于所述变化信息，根据与所述可移动体的基准状态的姿势变化计算第三位置误差校正信息，由此，

所述驱动系统进一步基于所述第二位置误差校正信息来驱动所述可移动体。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其中，

所述梁状部件具有在垂挂状态下固定于所述第一支撑部件的纵向方向上的两端部。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其中，

所述驱动系统基于所述校正信息来校正用于驱动所述可移动体的目标位置。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其中，

所述驱动系统基于所述校正信息来校正所述位置信息。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的曝光装置，其中，

其周期方向在平行于所述预定平面的方向上的光栅设置在所述测量表面上，

所述第一测量部件包括编码器头，所述编码器头利用所述测量束照射所述光栅，并从所述光栅接收衍射光。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其中，

所述引导表面形成部件是平台，所述平台设置在所述第二支撑部件的所述光学系统侧以与所述可移动体相对，并且所述平台在其与所述可移动体相对的侧的一个表面上形成有与所述预定平面平行的所述引导表面。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，

所述平台具有所述测量束能够通过的光透射部。

12.根据权利要求10和11之一所述的曝光装置，其中，

所述驱动系统包括平面马达，所述平面马达具有布置在所述可移动体处的动子与布置在所述平台处的定子，并通过所述动子与所述定子之间产生的驱动力而驱动所述可移动体。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的曝光装置，其中，

所述测量平面设置在所述可移动体处，并且

所述第一测量部件的至少一部分设置在所述第二支撑部件处。