[发明专利]源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法有效
申请号: | 201080042458.3 | 申请日: | 2010-09-24 |
公开(公告)号: | CN102576195A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | E·鲁普斯特拉;V·班尼恩;G·斯温克尔斯;S·皮克尔德;D·兰贝特斯基;U·斯坦姆;W·N·帕特劳 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司;赛默股份公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;C01B3/50;G21K1/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 收集 设备 光刻 以及 器件 制造 方法 | ||
1.一种用于极紫外辐射光刻设备的源收集器设备,其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体来产生极紫外辐射,所述源收集器设备包括:
包围结构,构造并布置成限定在包围结构内的缓冲气体的闭合回路流动路径;
泵,构造并布置成驱使缓冲气体通过所述闭合回路流动路径;和
气体分解器,构造并布置成分解燃料材料和缓冲气体材料的化合物,并将所述缓冲气体材料的至少一部分供给回至闭合回路流动路径中。
2.如权利要求1所述的源收集器设备,其中所述包围结构包括腔,所述腔与所述腔外部的引导通路流体连通,且其中泵和气体分解器定位在引导通路中。
3.如权利要求2所述的源收集器设备,其中所述气体分解器定位在泵的上游。
4.如权利要求3所述的源收集器设备,其中构造并布置成从在所述流动路径中流动的气体去除热的热交换器定位在气体分解器和泵之间。
5.如权利要求4所述的源收集器设备,其中附加的气体分解器定位在泵的下游的引导通路中。
6.如权利要求5所述的源收集器设备,其中构造并布置成提供热至在所述流动路径中流动的气体的第二热交换器定位在引导通路中且在所述附加的气体分解器和泵之间。
7.如权利要求6所述的源收集器设备,其中构造并布置成从在所述流动路径中流动的气体去除热的第三热交换器定位在引导通路内且在所述附加的气体分解器的下游。
8.如权利要求3-7中任一项所述的源收集器设备,其中所述引导通路包括泵和气体分解器之间的出口和消除系统,所述消除系统与所述出口流体连接并且构造并布置成提供和控制流出包围结构的气体流动。
9.如权利要求1-8中任一项所述的源收集器设备,其中所述包围结构形成有与缓冲气体源连接的入口。
10.如权利要求1-9中任一项所述的源收集器设备,其中所述燃料包括锡并且缓冲气体包括氢。
11.如权利要求10所述的源收集器设备,其中所述化合物是锡氢化物。
12.一种光刻设备,包括:
照射系统,配置成调节辐射束;
支撑结构,构造成保持图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化辐射束;
衬底台,构造成保持衬底;
投影系统,配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上,和
如权利要求1-11中任一项所述的源收集器设备。
13.一种光刻设备,包括:
源收集器设备,包括:
包围结构,构造并布置成限定包围结构内的缓冲气体的闭合回路流动路径;
泵,构造并布置成驱使缓冲气体通过闭合回路流动路径;
气体分解器,构造并布置成分解燃料材料和缓冲气体材料的化合物,并且将所述缓冲气体材料的至少一部分供给回至闭合回路流动路径;和
收集器,构造并布置成收集由燃料材料形成的等离子体发射的极紫外辐射;
照射系统,配置成调节所收集的极紫外辐射并形成辐射束;
支撑结构,构造成保持图案形成装置,所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化辐射束;
衬底台,构造成保持衬底;以及
投影系统,配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。
14.一种器件制造方法,包括步骤:
通过激发燃料以提供用于发射辐射的等离子体来生成极紫外辐射;
用源收集器设备内的反射收集器收集辐射;
驱使缓冲气体通过穿过收集器和所述发射辐射的等离子体之间的区域的闭合回路流动路径;
分解燃料材料和缓冲气体材料的化合物;
将所述缓冲气体材料的至少一部分供给回闭合回路流动路径;
将所收集的辐射图案化为图案化辐射束;和
将图案化辐射束投影到衬底上。
15.如权利要求14所述的方法,其中所述燃料包括锡并且所述缓冲气体包括氢。
16.如权利要求15所述的方法,其中所述化合物是锡氢化物。
17.如权利要求1-9中任一项所述的源收集器设备,其中所述气体分解器包括围绕至少一个插入物的导管。
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