[发明专利]光传感器、半导体器件和液晶面板无效
| 申请号: | 201080036495.3 | 申请日: | 2010-07-22 |
| 公开(公告)号: | CN102473792A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
| 发明(设计)人: | 织田明博;中泽淳 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
| 主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10;G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/136;G09F9/30;H01L27/14;H01L29/786 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 传感器 半导体器件 液晶面板 | ||
技术领域
本发明涉及包括薄膜二极管(Thin Film Diode:TFD)的光传感器,该薄膜二极管具有至少包含n型区域和p型区域的半导体层。另外,本发明还涉及包括薄膜二极管和薄膜晶体管(Thin Film Transistor:TFT)的半导体器件。而且,本发明还涉及包括该半导体器件的液晶面板。
背景技术
通过在显示装置中安装包括薄膜二极管的光传感器,能够实现触摸传感器功能。在这样的显示装置中,用手指、触控笔触碰显示装置的观察者侧的面(即,显示面)会使从显示面侧入射的光发生变化,通过用光传感器来检测出该入射光的变化,能够进行信息的输入。
在这样的显示装置中,由于周围的明亮度等的环境,用手指等接触显示面而引起的光的变化少。因此,存在有用光传感器不能够检测出该光的变化的问题。
在日本特开2008-287061号公报中,公开有在液晶显示装置中使用的半导体器件中,提高光传感器的光检测灵敏度的技术。对此,使用图7进行说明。
该半导体器件包括:在基板(有源矩阵基板)910上依次形成的绝缘层941、942、943、944;薄膜二极管920;和薄膜晶体管930。薄膜二极管920是具有包括n型区域921n、p型区域921p和低电阻区域921i的半导体层921的PIN型二极管。薄膜晶体管930具有包括沟道区域931c、作为源极区域的n型区域931a、作为漏极区域的n型区域931b的半导体层931。在隔着绝缘层943与沟道区域931c相对的位置设置有栅极电极932。n型区域931b与像素电极(未图示)连接。
薄膜二极管920受到从显示面侧(图7的纸面上侧)入射的光的光照。另一方面,对基板910在与显示面相反的一侧(图7的纸面下侧)配置有背光源(未图示),为了不使来自该背光源的光入射到薄膜二极管920,在薄膜二极管920与基板910之间设置有遮光层990。遮光层990形成为沿着部分地除去绝缘层941而形成的凹部992的表面延伸。由于将凹部992形成为向上逐渐变宽的锥状,因此在遮光层990形成沿着凹部992的倾斜面延伸的倾斜面991。
遮光层990也具有作为反射层的功能。因此,从显示面侧入射、未入射到薄膜二极管920而是入射到薄膜二极管920与遮光层990之间的光,在遮光层990被反射而入射到薄膜二极管920。在遮光层990形成的倾斜面991,将入射到倾斜面991的光反射向薄膜二极管920。
在如图7所示的半导体器件中,通过设置如上所述的遮光层990,能够使从显示面侧入射的光更多地入射到薄膜二极管920。因此,能够提高光检测灵敏度。
发明内容
即使是图7所示的半导体器件,也不能够得到充分的光检测灵敏度。其理由如以下所述。
薄膜二极管920的半导体层921与薄膜晶体管930的半导体层931同时形成。由此,半导体层921的膜厚度非常薄。因此,导致入射到半导体层921的光的一部分未被半导体层921吸收而通过。因此,在通过倾斜面991而使入射到薄膜二极管920与遮光层990之间的光反射向半导体层921时,反射向半导体层921的光的一部分有可能未被半导体层921吸收而通过半导体层921。而且,倾斜面991只形成在遮光层990的端缘部附近。因此,在倾斜面991反射的光的大部分入射到薄膜二极管920的周边部分。其结果是,入射到作为受光区域的低电阻区域921i的光很少。
本发明是为了解决上述现有技术问题而完成的,其目的在于:即使薄膜二极管的半导体层的厚度薄,也能够提高光利用效率并提高薄膜二极管的光检测灵敏度。
本发明的光传感器包括:基板;设置在上述基板的一侧且具有至少包含n型区域和p型区域的第一半导体层的薄膜二极管;和设置在上述基板与上述第一半导体层之间的遮光层。在上述遮光层的与上述第一半导体层相对的一侧的面形成有凹凸。上述第一半导体层具有与上述遮光层的上述凹凸大致相同的形状。
根据本发明,在遮光层形成有凹凸。由此,入射到遮光层的光,因遮光层的凹凸而发生漫反射后,入射到第一半导体层。第一半导体层具有与遮光层的凹凸大致相同的形状。由此,入射到第一半导体层内的光在第一半导体层内前进的距离变长。其结果是,被第一半导体层吸收的光增加。因此,即使第一半导体层的厚度薄,也能够提高光利用效率,提高光检测灵敏度。
附图说明
图1是表示涉及本发明的实施方式1的半导体器件的概略结构的截面图。
图2是图1的部分II的放大截面图,是用于说明在涉及本发明的实施方式1的半导体器件中的薄膜二极管的光检测灵敏度上升的原因的附图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080036495.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





