[发明专利]光刻用共聚物及其评价方法有效

专利信息
申请号: 201080031212.6 申请日: 2010-07-05
公开(公告)号: CN102472982B 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 加藤圭辅;前田晋一;松本大祐 申请(专利权)人: 三菱丽阳株式会社
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26;C08F220/10
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 徐申民;刘香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光刻 共聚物 及其 评价 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻用共聚物,其特征在于,所述共聚物的制造方法具有向反应器内滴下单 体和聚合引发剂的同时,在所述反应器内将2种以上的单体α1~αn聚合,得到由结构单元 α’1~α’n构成的聚合物的聚合工序,

所述聚合工序中,将各自组成不同的第1溶液和第2溶液供给至反应器,

所述第1溶液在所述第2溶液之前供给至容器中,

所述第1溶液的组成设计为,随着所述第2溶液的供给,第2溶液滴下后瞬间生成的 聚合物分子的结构单元的含有比例与目标组成相同,

所述第2溶液的组成与想要得到的聚合物组成相同;且

该共聚物通过下述光刻用共聚物的处理工序测定的组成比变化率在6%以下:

将光刻用共聚物溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯中,制备浓度为2.5质量%的测试溶液的 工序(v);

向所述测试溶液中加入不良溶剂直到波长450nm处的透射率为85±3%的工序(vi);

将所述测试溶液中的凝胶状物质在相对离心加速度50万G、处理温度4℃、处理时间 4小时的条件下离心分离的分离工序(vii);

用核磁共振装置NMR求出所述凝胶状物质中相应的一种结构单元的组成比减去所述 光刻用共聚物中的结构单元的组成比的差相对所述光刻用共聚物中的至少一种结构单元 的组成比的比例所表示的组成比变化率的工序(viii)。

2.一种光刻组合物,含有权利要求1中记载的光刻用共聚物。

3.一种光刻用共聚物的评价方法,包括将光刻用共聚物溶解在溶剂中并添加不良溶 剂生成凝胶状物质而制备测试溶液的工序(i),将所述测试溶液中的凝胶状物质分离的工 序(ii),求出所述凝胶状物质中结构单元的组成比减去所述光刻用共聚物中结构单元的 组成比的差相对于所述光刻用共聚物中结构单元的组成比的比例所表示的组成比变化率 的工序(iii),以及根据所述组成比变化率,评价含有所述光刻用共聚物的光刻用组合物 的光刻特性的工序(iv)。

4.根据权利要求3记载的光刻用共聚物的评价方法,其特征在于,所述光刻用共聚 物是具有1种以上有酸离去基团的结构单元,和1种以上有极性基团的结构单元的光刻胶 用共聚物,根据所述组成比变化率评价含有所述光刻胶用共聚物的光刻胶组合物的显影特 性。

5.根据权利要求3或4中记载的光刻用共聚物的评价方法,其特征在于,通过离心 分离进行所述凝胶状物质的分离。

6.一种制造光刻用共聚物的方法,包括用权利要求3中记载的评价方法评价光刻用 共聚物的工序。

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