[发明专利]对时变的缺陷分类性能的监视无效
申请号: | 201080030311.2 | 申请日: | 2010-06-23 |
公开(公告)号: | CN102576045A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | P·休伊特;B·达菲;M·费利豪尔;T·托特泽赫;C·马赫 | 申请(专利权)人: | 克拉-坦科股份有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈炜 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缺陷 分类 性能 监视 | ||
1.一种用于监视时变的缺陷分类性能的方法,包括:
从一个或更多个扫描检验工具接收指示一个或更多个样本的一种或更多种属性的一个或更多个信号;
根据对从所述一个或更多个扫描检验工具收到的所述一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则来确定所述一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群;
使用一个或更多个高分辨率的检验工具来确定所述一个或更多个样本的所述一种或更多种缺陷类型的种群;以及
计算从应用到接收自所述一个或更多个扫描检验工具的一个或更多个信号的一种或更多种分类规则的应用确定的一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群与使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具确定的所述一个或更多个样本的所述一种或更多种缺陷类型的种群之间的一个或更多个相关性。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述一个或更多个扫描检验工具从以下的至少一者中选择:明场图案化晶片检验器;图案化暗场光子光学晶片检验器;未图案化暗场光子光学晶片检验器;以及电子束光学区域扫描检验器。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,分类属性从以下的至少一者中选择:尺寸、形状、极性、纹理、对比度、背景情况。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述一个或更多个高分辨率的检验工具从以下的至少一者中选择:扫描电子显微镜;原子力显微镜;共焦显微镜。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据对从所述一个或更多个扫描检验工具收到的所述一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则来确定所述一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群包括:
根据对从所述一个或更多个扫描检验工具收到的所述一个或更多个
信号应用一种或更多种分类规则来确定至少第一样本和第二样本的一种
或更多种缺陷类型的种群;
其中,所述使用一个或更多个高分辨率的检验工具来确定所述一个或更多个样本的所述一种或更多种缺陷类型的种群包括:
使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具来确定至少所述第一样
本和所述第二样本的一种或更多种缺陷类型的种群;以及
其中,计算从应用到接收自所述一个或更多个扫描检验工具的一个或更多个信号的一种或更多种分类规则的应用确定的一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群与使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具确定的所述一个或更多个样本的所述一种或更多种缺陷类型的种群之间的一个或更多个相关性包括:
计算从向接收自所述一个或更多个光学检验工具的一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则确定的一种或更多种缺陷类型的种群和通过使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具确定的一种或更多种缺陷类型的种群在至少所述第一样本和所述第二样本之间的相对稳定性。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据对从所述一个或更多个扫描检验工具收到的所述一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则来确定所述一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群包括:
根据对从所述一个或更多个扫描检验工具收到的所述一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则来确定样本的至少第一缺陷类型和第二缺陷类型的种群;以及
其中,所述使用一个或更多个高分辨率的检验工具来确定所述一个或更多个样本的所述一种或更多种缺陷类型的种群包括:
使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具来确定样本的至少第一
缺陷类型和第二缺陷类型的种群;以及
其中,计算从应用到接收自所述一个或更多个扫描检验工具的一个或更多个信号的一种或更多种分类规则的应用确定的一个或更多个样本的一种或更多种缺陷类型的种群与使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具确定的所述一个或更多个样本的所述一种或更多种缺陷类型的种群之间的一个或更多个相关性包括:
计算从对与接收自所述一个或更多个扫描检验工具的样本相关联的一个或更多个信号应用一种或更多种分类规则确定的所述第一缺陷类型的所述种群与所述第二缺陷类型的所述种群之间的第一相关性;以及
计算使用所述一个或更多个高分辨率的检验工具确定的所述第一缺陷类型的所述种群与所述第二缺陷类型的所述种群之间的第二相关性;以及
计算所述第一相关性与所述第二相关性之间的相关性。
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