[发明专利]用于光刻机的准备单元有效

专利信息
申请号: 201080017967.0 申请日: 2010-02-22
公开(公告)号: CN102414782A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: H.J.德琼 申请(专利权)人: 迈普尔平版印刷IP有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B65G1/04;B65H1/00;C23C16/00;F16K1/16;H01L21/44;H05H1/24;G05B24/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈晓帆;沙捷
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 光刻 准备 单元
【权利要求书】:

1.一种带电粒子光刻系统,包括准备单元(112),该准备单元包括:

外壳(136),具有第一装载口(131),用以装载基板(22、82、122)到该外壳内及/或将该基板从该外壳中卸除;

基板运送单元(127),用以将该基板放置在该外壳内的基板支撑结构(23、83、123)上;以及

第二装载口(132),用以装载及/或卸载支撑该基板的该基板支撑结构。

2.如权利要求1的系统,还包括光刻设备(113),用以在基板处理隔间(139)中于该基板上执行光刻处理,该准备单元还包括能量释放系统,用以在该基板支撑结构从该基板处理隔间移开之后,去除光刻处理所引起而累积在基板支撑结构中的能量(148)。

3.如权利要求2的系统,其中该准备单元设有连接部位,以排放并提供用于该能量释放系统的能量运送媒介(135)。

4.如权利要求3的系统,其中该能量运送媒介包括流体。

5.如权利要求2的系统,其中该能量释放系统包括电气驱动的热电型冷却元件。

6.如权利要求5的带电粒子光刻系统,其中该冷却元件包括用于冷却流体的导管,该等导管至少一部分位于该外壳外部。

7.如权利要求2至6中任一项的系统,其中该准备单元被改制成使该基板支撑结构暴露于该能量运送媒介。

8.如权利要求7的系统,其中该能量运送媒介是流体,优选为水。

9.如前述任一项权利要求的系统,其中该系统被改制成在该准备单元与一光刻设备之间再利用一个或多个基板支撑结构。

10.如前述任一项权利要求的系统,其中该准备单元包括在该单元内的后进后出式缓冲系统(136),用以容纳多个基板支撑结构。

11.如前述任一项权利要求的系统,其中该外壳(136)提供经控制的压力环境。

12.如前述任一项权利要求的系统,其中该准备单元进一步被建构成藉由毛细液体层而将该基板夹固于该基板支撑结构的表面上。

13.如权利要求3的系统,其中该能量运送媒介包括液体,且至少部分用于毛细液体层,以便将该基板夹固至该基板支撑结构的表面上。

14.如权利要求12的系统,其中设置该能量运送媒介用于该毛细液体层,以超过夹固基板所需要的液体量。

15.如权利要求12至14中任一项的系统,其中该准备单元还包括液体分配器,用以分配液体到该基板支撑结构的表面上,以形成该毛细液体层。

16.如权利要求12至15中任一项的系统,其中该外壳(136)内的压力可以降低至大致等于毛细层中液体的蒸汽压力的压力。

17.如前述任一项权利要求的系统,其中该基板运送单元包括支撑杆(127),用以将该基板下降至该基板支撑结构上。

18.如前述任一项权利要求的系统,其中该准备单元还包括一个或多个气体连接器(126a、126b),可连接到该基板支撑结构而提供气体到该基板支撑结构的表面或从该处移除气体。

19.如权利要求18的系统,其中该气体包括氮气。

20.如前述任一项权利要求的系统,其中该准备单元还包括一个或多个液体连接器(126a、126b),可连接到基板支撑结构而提供液体到该基板支撑结构的表面或从该处移除液体。

21.如前述任一项权利要求的系统,其中该基板支撑结构可以自由移动。

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