[发明专利]光学成像设备及制造该光学成像设备的方法

权利要求书

1.一种光学成像设备，包括：

第一光学组件，所述第一光学组件包括辐射透射衬底和隔离物，

所述辐射透射衬底包括至少一个光学表面；以及，

传感器组件，所述传感器组件包括隔离物和至少一个感测元件，其中，所述第一光学组件的隔离物联接到所述传感器组件的隔离物。

2.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述辐射透射衬底包括多个光学表面。

3.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述第一光学组件的隔离物是光学组件隔离物晶片的单分部分。

4.根据权利要求3所述的光学成像设备，其中，所述传感器组件的隔离物是传感器组件隔离物晶片的单分部分。

5.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述第一光学组件的隔离物包括凹陷，包括所述至少一个光学表面的所述辐射透射衬底安置在所述凹陷中。

6.根据权利要求5所述的光学成像设备，其中，在所述凹陷的凸缘与包括所述至少一个光学表面的所述辐射透射衬底之间布置有聚焦隔离物。

7.根据权利要求5所述的光学成像设备，其中，所述第一光学组件的隔离物部分地限制通过所述光学组件的电磁辐射量。

8.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述第一光学组件的隔离物由可用于吸收通过所述第一光学组件的一种或多种波长的电磁辐射的材料构成。

9.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述传感器组件的隔离物包括彼此联接的两种或更多种材料的复合构造。

10.根据权利要求9所述的光学成像设备，其中，所述两种或更多种材料选自由焊接掩模、绝缘材料和硅材料构成的组。

11.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，所述至少一个感测元件是感测元件晶片的单分部分。

12.根据权利要求1所述的光学成像设备，进一步包括联接到所述传感器组件的所述至少一个感测元件的电路。

13.根据权利要求1所述的光学成像设备，其中，与传感器组件隔离物的高度相结合的第一光学组件隔离物的高度将所述至少一个光学表面的焦点设定在所述感测元件的平面处或所述平面附近。

14.根据权利要求1所述的光学成像设备，进一步包括至少一个另外的光学组件，所述至少一个另外的光学组件包括另外的辐射透射衬底和另外的隔离物，所述另外的辐射透射衬底包括至少一个另外的光学表面。

15.一种光学成像设备，包括：

光学组件，所述光学组件包括联接到隔离物的多个光学元件；以及

传感器组件，所述传感器组件包括隔离物和至少一个感测元件，其中，所述光学组件的隔离物联接到所述传感器组件的隔离物。

16.根据权利要求15所述的光学成像设备，其中，所述光学组件的隔离物包括至少一个凹陷，所述光学元件中的一个至少部分地布置在所述至少一个凹陷中。

17.根据权利要求15所述的光学成像设备，其中，所述光学组件的隔离物包括多个凹陷，所述光学元件至少部分地布置在所述多个凹陷中。

18.根据权利要求15所述的光学成像设备，其中，所述多个光学元件以堆叠的构造布置。

19.根据权利要求15所述的光学成像设备，其中，所述光学组件的隔离物是光学组件隔离物晶片的单分部分。

20.根据权利要求15所述的光学成像设备，其中，所述传感器组件的隔离物是传感器组件隔离物晶片的单分部分。

21.根据权利要求15所述的光学成像设备，其中，所述至少一个感测元件是感测元件晶片的单分部分。

22.一种制造多个单独的光学成像设备的方法，包括：

提供包括多个光学组件的晶片，所述光学组件包括隔离物和辐射透射衬底，所述辐射透射衬底具有至少一个光学表面；

提供传感器晶片，所述传感器晶片包括多个传感器组件，所述传感器组件包括感测元件和隔离物；

将所述光学组件的隔离物联接到所述传感器组件的隔离物，以提供多个结合的光学成像设备；以及

对所述结合的光学成像设备进行单分。