[实用新型]管道连接器和应用所述管道连接器的化学气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201020658125.0 申请日: 2010-11-29
公开(公告)号: CN201902735U 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 叶芷飞;张昭 申请(专利权)人: 理想能源设备有限公司
主分类号: F16L23/00 分类号: F16L23/00;F16L23/02;F16L23/16;C23C16/455
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 英属维京群岛托*** 国省代码: 维尔京群岛;VG
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摘要:
搜索关键词: 管道 连接器 应用 化学 沉积 设备
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种管道连接器和应用所述管道连接器的化学气相沉积设备,特别是指一种球面柔性管道连接器和应用所述球面柔性管道连接器的PECVD(等离子体增强的化学气相沉积)设备。

背景技术

如图1所示,为现有技术中的化学气相沉积设备的结构示意图,其包含反应腔11、管道连接器12、真空管道14和真空泵13。其中,所述反应腔11具有一排气口15,所述管道连接器12用于连接密封所述反应腔11的排气口15以及所述真空管道14的一端;所述真空管道14的另一端与所述真空泵13相连接。在化学气相沉积的过程中,所述真空泵13通过真空管道14和管道连接器12,从所述反应腔11内抽取气体,以保持反应腔11内的气压始终满足化学气相沉积反应的要求。

如图2所示,为现有技术中的管道连接器12的剖面结构示意图,其包含第一法兰121、第二法兰122、密封垫圈123和若干螺钉124。其中,所述第一法兰121固定连接于所述反应腔11的排气口15。所述第二法兰122固定连接于真空管道14的一端。所述密封垫圈123设置在第一法兰121与第二法兰122之间,并利用所述若干螺钉124连接固定所述第一法兰121与第二法兰122,使第一法兰121与第二法兰122夹紧密封垫圈123,从而使得所述密封垫圈123密封第一法兰121与第二法兰122之间的连接,最终使得反应腔11的排气口15与真空管道14之间实现密封连接。

由于在化学气相沉积的过程中,反应腔11内会产生高温,高温将通过反应腔11的排气口15传递至管道连接器12,由此会导致所述管道连接器12的两个法兰121、122发生热涨变形,使得所述第一法兰121与第二法兰122不能夹紧所述密封垫圈123,而不能形成良好的密封连接,最终导致反应腔11内的气压处于不稳定的状态,影响化学气相沉积的效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种管道连接器和应用所述管道连接器的化学气相沉积设备,以解决现有技术中存在的管道连接器在因热胀冷缩而发生尺寸变化时,其无法保证化学气相沉积设备中的反应腔和真空管道之间密封连接的问题。

本实用新型的技术方案是提供一种管道连接器,其用于密封连接化学气相沉积设备中的反应腔和真空管道,所述管道连接器包含:与反应腔的排气口固定连接的第一法兰,与真空管道的一端连接的第二法兰,以及限定第一法兰和第二法兰之间距离的连接部件;本实用新型的特点在于,所述管道连接器还包含:第三法兰,所述第三法兰设置于第一法兰和第二法兰之间;所述第三法兰与所述第一法兰之间形成有滑动密封连接,所述第三法兰与所述第二法兰之间形成有球面密封连接。

所述第一法兰包含一个滑动凸出部,所述第三法兰面向第一法兰的一个端面上包含一个与第一法兰的滑动凸出部配合连接的滑动凹陷部,形成第一法兰与第三法兰之间的滑动密封连接。

所述滑动凹陷部的内径与滑动凸出部的外径间隙配合,其配合公差为0.03毫末到0.07毫米之间。

进一步,所述管道连接器还包含一第四法兰,所述第四法兰夹设于第二法兰和第三法兰之间,所述第二法兰和第三法兰通过第四法兰形成球面密封连接。

所述第四法兰为一球面法兰,其外表面成球面状。

所述第三法兰面向第四法兰的一个端面上包含第一球面凹陷部;其与第四法兰的球面外表面配合,形成第三法兰与第四法兰之间的球面密封连接。

所述第二法兰包含第二球面凹陷部;其与第四法兰的球面外表面配合,形成第二法兰与第四法兰之间的球面密封连接。

进一步,所述管道连接器还包含连接设置在第一法兰与第三法兰之间的弹簧,所述弹簧用于推动所述第三法兰压紧第四法兰。

所述连接部件为若干螺钉。所述第一法兰和第二法兰还分别包含一个法兰缘,所述螺钉连接第一法兰的法兰缘和第二法兰的法兰缘。

本实用新型还提供一种应用上述管道连接器的化学气相沉积设备,其包含反应腔、管道连接器、真空管道和真空泵。其中,所述反应腔具有一排气口,所述管道连接器用于连接密封所述反应腔的排气口和所述真空管道的一端;所述真空管道的另一端与所述真空泵相连接。

本实用新型所提供的管道连接器以及应用所述管道连接器的化学气相沉积设备,在进行化学气相沉积过程中,尤其是在进行等离子体增强化学气相沉积过程中,与现有技术相比,具有以下优点:

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