[实用新型]一种化学机械研磨设备有效
申请号: | 201020644570.1 | 申请日: | 2010-12-06 |
公开(公告)号: | CN201960447U | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 邓武锋 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B57/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械 研磨 设备 | ||
1.一种化学机械研磨设备,包括:表面贴有研磨垫的转台,研磨头、用于输送研磨液的研磨液供应装置,其特征在于,还包括用于检测被研磨样品厚度的传感器以及对所述传感器的测量数据进行处理的数据处理器;所述研磨液供应装置包括供应管道、流速控制器和多个分流端口;所述传感器安装于所述研磨垫下,所述数据处理器连接所述传感器,所述流速控制器的一端连接所述数据处理器,另一端连接所述供应管道,所述分流端口连接于所述流速控制器上;所述分流端口分布于所述流速控制器的两侧。
2.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述研磨头从中心至最外端的被划分为多个不同的区域,所述各个区域上所施加的压力不同,所述流速控制器的两侧分别设置的分流端口的位置分别对应于所述研磨头上不同压力区域的位置。
3.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述研磨液供应装置沿所述转盘的半径进行移动,其移动方向同所述研磨头的移动方向相对,移动距离同所述研磨头的移动距离相等。
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