[实用新型]用于单面制绒的太阳能电池硅片有效
申请号: | 201020223246.2 | 申请日: | 2010-06-10 |
公开(公告)号: | CN201717272U | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 邓伟伟;刘亚锋 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
地址: | 213031 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 单面 太阳能电池 硅片 | ||
技术领域
本实用新型涉及晶体硅太阳能电池,尤其是一种用于单面制绒的太阳能电池硅片。
背景技术
传统的太阳能电池的制备工艺流程中第一步为清洗制绒,然后再进行后续的工艺,制绒的目的是降低电池表面对光的反射率,从而提高光的吸收率。其传统的制绒方法包括碱制绒、酸制绒,碱制绒和酸制绒方法为两面同时制绒,除此之外还有其他高效电池的特殊制绒方法,例如:RIE制绒,光刻制绒等,这些方法可以形成一面制绒,但成本相对较高。
碱制绒、酸制绒、RIE制绒,光刻制绒原理如下:
碱制绒:根据Si各个晶面腐蚀的速度不同,用碱溶液将硅片表面腐蚀出金字塔,硅片正反两面都形成金字塔,对光的发射率低;
酸制绒:用硝酸、氢氟酸按照一定的配比配成的溶液来腐蚀硅片表面,形成的绒面为不规则的凹坑,硅片两面同时形成这样的绒面,正面和反面的对光的反射率低;
RIE制绒:在硅片的受光面用反应离子体刻蚀,形成反射率低的绒面,这种方法可以一面制绒,但成本高,后续去损伤层难度较大;
光刻制绒:先在硅片表面生长一层厚度约为1um左右的氧化膜,再使用光刻的方法制绒,反射率低,成本高。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是:提供一种硅片用于太阳能电池的单面制绒生产。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种用于单面制绒的太阳能电池硅片,具有硅片,硅片的上表面为制绒层,硅片的下表面具有一层作为制绒阻挡层的氮化硅膜。
氮化硅膜的厚度为5nm-200nm。
本实用新型的有益效果是,使通过传统酸、碱制绒方法进行太阳能电池硅片的单面制绒成为可能,相对于RIE制绒和光刻制绒,节约了成本。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中:1.硅片,2.制绒层,3.氮化硅膜。
具体实施方式
如图1所示的用于单面制绒的太阳能电池硅片,具有硅片1,硅片1的上表面为制绒层2,硅片1的下表面具有一层作为制绒阻挡层的氮化硅膜3,氮化硅膜3的厚度为5nm-200nm。
将硅片1放入碱制溶液中,根据硅各个晶面腐蚀的速度不同,碱制溶液对硅片的表面进行腐蚀,硅片1的上表面腐蚀出金字塔形,由于在硅片1的下表面具有氮化硅膜3作为阻挡层,所以就形成了单面制绒的硅片。
将硅片1放入酸制溶液中,用硝酸、氢氟酸按照一定的配比配成溶液对硅片1的表面进行腐蚀,在硅片1的上表面形成不规则的凹坑,由于在硅片1的下表面具有氮化硅膜3作为阻挡层,所以就形成了单面制绒的硅片。
单面制绒后的硅片再经过常规扩散、去磷硅玻璃及刻边、印刷电极、烧结和电性能测试等步骤就可以形成成品。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的