[实用新型]用于双层导电膜面板曲线工艺的镭射装置无效
申请号: | 201020104843.3 | 申请日: | 2010-01-26 |
公开(公告)号: | CN201659376U | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 李俊豪 | 申请(专利权)人: | 合冠科技股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/36 | 分类号: | B23K26/36 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 双层 导电 面板 曲线 工艺 镭射 装置 | ||
技术领域
本创作是有关一种镭射装置,特别是用于双层导电膜面板曲线工艺的镭射装置。
背景技术
ITO(铟锡氧化物)已广泛用于触控面板中导电薄膜的材料,电容式触控面板在玻璃基板二面均镀有ITO导电薄膜,并将的蚀刻为特殊设计的图案,用以形成均匀电场,当手指或触碰笔接触触控面板时,藉由电场强度的改变而推知触碰位置。
目前具双层ITO导电膜的面板其ITO线路均以黄光工艺(或可称为湿工艺)蚀刻,然其蚀刻液有污染性,工艺中需再处理废液,且工艺设备昂贵,为降低环境污染及生产成本,采用镭射的干工艺是良好的解决之道,镭射干工艺相较于湿工艺具有简易、低污染性及低成本等优点。然而,现有镭射加工工艺于ITO导电薄膜所产生的热效应会影响双层ITO的工艺,无法单纯做好一面ITO导电薄膜的线路而不影响到另一面,因此双层ITO线路工艺仍以黄光工艺为主。
综上所述,如能提出可直接以镭射加工具双层导电薄膜面板的工艺,并避免破坏两层ITO的线路,将可改善目前湿工艺的污染性、高成本与步骤繁琐等缺点。
发明内容
有鉴于此,本创作的主要目的在于提出一种用于双层导电膜面板曲线工艺的镭射装置,用以加工具双层导电膜的面板,以等离子体蚀刻方式制作导电膜的线路,可提供低污染、有效率的双层导电膜曲线电路工艺。
本创作提出的镭射装置包含镭射模块、Y轴运动平台、X轴运动平台及线性马达,用以加工一面板,面板包含第一导电膜、第二导电膜及介于第一导电膜与第二导电膜间的基板,第一导电膜位于镭射装置与基板之间。镭射模块包含镭射光源、监控单元及光束运动单元,镭射光源用以产生可调波长的第一激光束,监控单元用以接收并校正第一激光束后输出第二激光束,光束运动单元接收并偏移第二激光束,用以输出第三激光束,使第三激光束沿 平行于第一导电膜表面的一X轴方向加工第一导电膜。Y轴运动平台承载镭射模块,用以沿正交于X轴方向并平行于导电膜表面的Y轴方向移动镭射模块,第三激光束沿X轴方向运动同时向Y轴方向运动,以等离子体蚀刻方式加工第一导电膜形成曲线而不影响第二导电膜,X轴运动平台承载面板,用以于第一导电膜形成曲线后沿X轴方向移动面板,利于完成其余曲线工艺,线性马达连接于镭射模块,用以调整镭射模块沿垂直于面板表面的Z轴方向调整镭射模块的位置。
有关本创作的较佳实施例及其功效,兹配合附图说明如后。
附图说明
图1为本创作的示意图。
图2本创作镭射模块的方块图。
图3于面板刻划曲线的示意图。
符号说明
10:镭射模块 12:镭射光源
14:监控单元 141:镭射光闸
142:第一分光镜 143:光谱仪
144:镭射功率衰减器 145:第二分光镜
146:光功率计 147:第一光曲路器
148:光束整形器 149:准直扩束器
150:第二光曲路器 151:第三分光镜
152:第三光曲路器 153:光束轮廓分析仪
16:光束运动单元 161:对位视觉模块
162:扫瞄振镜 163:远心镜头
18:遮蔽护罩 20:Y轴运动平台
22:X轴运动平台 30:线性马达
40:面板 42:第一导电膜
44:基板 46:第二导电膜
48:曲线图案 50:第一激光束
51:第二激光束 52:第三激光束
53:第一反射光束 54:第一横向偏移光束
55:第二反射光束 56:第二横向偏移光束
57:第三横向偏移光束 60:主机
62:显示器 X:X轴方向
Y:Y轴方向 Z:Z轴方向
具体实施方式
以下举出具体实施例以详细说明本创作的内容,并以图示作为辅助说明。说明中提及的符号是参照图标符号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合冠科技股份有限公司,未经合冠科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020104843.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:健脑仪
- 下一篇:采用双导柱式正弦传动装置的车辆减振器试验台