[实用新型]用于双层导电膜面板曲线工艺的镭射装置

权利要求书

1.一种用于双层导电膜面板曲线工艺的镭射装置，用以加工一面板，该面板包含一第一导电膜、一第二导电膜及介于该第一导电膜与该第二导电膜间的一基板，该第一导电膜位于该镭射装置与该基板之间，其特征在于，该镭射装置包含：

一镭射模块，包含：

一镭射光源，用以产生可调波长范围的一第一激光束；

一监控单元，用以接收并校正该第一激光束后输出一第二激光束；及

一光束运动单元，接收并偏移该第二激光束，用以输出一第三激光束，使该第三激光束沿平行于该第一导电膜表面的一X轴方向加工该第一导电膜；

一Y轴运动平台，承载该镭射模块，用以沿正交于该X轴方向并平行于该第一导电膜表面的一Y轴方向移动该镭射模块，使该第三激光束沿该X轴方向加工该第一导电膜同时向该Y轴方向运动，以等离子体蚀刻方式加工该第一导电膜形成曲线；

一X轴运动平台，承载该面板，用以于该第一导电膜形成曲线后沿该X轴方向移动该面板；及

一线性马达，连接于该镭射模块与该Y轴运动平台间，用以沿正交于该X轴方向与该Y轴方向的一Z轴方向调整该镭射模块的位置。

2.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该镭射模块还包含一屏蔽护罩，环绕遮蔽该监控单元。

3.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该镭射光源产生的该第一激光束为二氧化碳镭射。

4.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该镭射光源产生的该第一激光束的波长调整范围为9.2um～10.6um。

5.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该镭射光源产生的该第一激光束的功率大于1500W。

6.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该面板的该第一导电膜与该第二导电膜的材质为ITO。

7.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该面板的该基板材质为玻璃。

8.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该面板的该基板材质为 PET。

9.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该监控单元包含：

一镭射光闸，接收该第一激光束，并使该第一激光束于电源开启时通过；

一第一分光镜，分光通过该镭射光闸的该第一激光束为90度角偏移的一第一反射光束及与原行进方向相同的一第一横向偏移光束；

一光谱仪，接收该第一横向偏移光束，用以分析该第一激光束的光谱；

一镭射功率衰减器，接收该第一反射光束，用以控制该第一反射光束的功率；

一第二分光镜，分光通过该镭射功率衰减器的该第一反射光束为90度角偏移的一第二反射光束及与原行进方向相同的一第二横向偏移光束；

一光功率计，接收该第二反射光束，用以分析该第二反射光束的功率；

一第一光曲路器，用以将该第二横向偏移光束90度位移；

一光束整形器，接收经该第一光曲路器90度位移的该第二横向偏移光束，用以将该第二横向偏移光束的高斯能量分布转为平顶式能量分布；

一准直扩束器，接收经光束整形器的该第二横向偏移光束，用以校准该第二横向偏移光束行进方向及调整该第二横向偏移光束的直径；

一第二光曲路器，用以将经该准直扩束器的该第二横向偏移光束90度位移；

一第三分光镜，分光通过该第二光曲路器的该第二横向偏移光束为90度角偏移的该第二激光束及与原行进方向相同的一第三横向偏移光束；

一第三光曲路器，用以将该第三横向偏移光束90度位移；及

一光束轮廓分析仪，接收该第三光曲路器90度位移的该第三横向偏移光束，用以分析该第三横向偏移光束，当光参数超出预设范围时发出警告。

10.根据权利要求1所述的镭射装置，其特征在于，该光束运动单元以扫瞄振镜运动方式使该第三镭射光沿该X轴方向加工该第一导电膜，该光束运动单元包含：

一对位视觉模块，接收该第二激光束，用以观测并辅助定位该第三激光束输出的位置；

一扫瞄振镜，连接于该对位视觉模块，用以偏移该第二激光束，输出该第三激光束，使该第三镭射光沿该X轴方向加工该第一导电膜；及 

一远心镜头，连接于该扫瞄振镜，用以无失真地观看该第三激光束及该面板。