[发明专利]光栅片、液晶显示装置及光栅片、液晶面板的制造方法

权利要求书

1.一种光栅片，其特征在于，包括多个平行设置的三原色光栅，所述三原色光栅包括红色R子光栅、绿色G子光栅和蓝色B子光栅，所述红色R子光栅、绿色G子光栅和蓝色B子光栅之间平行设置，每个子光栅包括开口区，所述开口区设有用于衍射的金属层，所述开口区的四周设有反光区，所述子光栅对应于阵列基板上的像素单元。

2.根据权利要求1所述的光栅片，其特征在于，所述反光区为镜面式反光区。

3.根据权利要求1所述的光栅片，其特征在于，所述反光区为棱镜式反光区。

4.根据权利要求1所述的光栅片，其特征在于，所述用于衍射的金属层为铝金属层。

5.根据权利要求1-4任一项所述的光栅片，其特征在于，

所述R子光栅包括：l＝0.813um，Φ＝20％，t＝80nm，d＝20nm；

所述G子光栅包括：l＝0.813um，Φ＝36％，t＝60nm，d＝40nm；

所述B子光栅包括：l＝0.813um，Φ＝47％，t＝40nm，d＝60nm；

其中l为子光栅的周期长度，Φ为占空比，Φ＝w/l，w为子光栅开口区的开口宽度，t为子光栅上用于衍射的金属层的厚度，d为开口区与反光区之间的层间距。

6.一种液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的光栅片，所述光栅片位于背光源的出光侧。

7.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，所述光栅片位于所述背光源与下偏振片之间；或者

所述光栅片位于所述下偏振片与液晶面板之间；或者

所述光栅片位于所述液晶面板的阵列基板与液晶层之间；或者

所述光栅片位于所述液晶面板的彩膜基板与液晶层之间；或者

所述光栅片位于所述液晶面板与上偏振片之间；或者

所述光栅片位于所述上偏振片的出光侧。

8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于，所述背光源的保护膜与棱镜膜之间设有反射膜；或者所述背光源的保护膜的出光侧表面为镜面式表面。

9.根据权利要求7或8所述的液晶显示装置，其特征在于，所述液晶面板的彩膜基板上设有透明导电层。

10.一种光栅片的制造方法，其特征在于，包括：

在基板上依次沉积氮化硅薄膜，通过构图工艺形成红色R子线栅、绿色G子线栅和蓝色B子线栅并在所述基板上镀一层金属薄膜以形成相互平行的红色R子光栅、绿色G子光栅和蓝色B子光栅；

在所述基板上沉积一层反光薄膜，通过构图工艺形成反光区，所述反光区位于每个子光栅的开口区的四周。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述基板上沉积一层反光薄膜，通过构图工艺形成反光区，所述反光区位于每个子光栅的开口区的四周，包括：

在所述基板上沉积一层反光薄膜；

在所述反光薄膜上旋涂一层光刻胶薄膜；

所述基板经过曝光、显影和刻蚀工序暴露出每个子光栅的开口区并剥离基板上残余的光刻胶。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述在所述反光薄膜上旋涂一层光刻胶薄膜之前，还包括：

用带有棱镜图案的模具压合反光薄膜以形成棱镜式反光薄膜。

13.根据权利要求10-12任一项所述的方法，其特征在于，所述在基板上依次沉积氮化硅薄膜中，所述基板为玻璃基板或者彩膜基板或者阵列基板；

所述彩膜基板上仅沉积透明导电薄膜；

在所述基板为阵列基板时，在所述在基板上依次沉积氮化硅薄膜之前，还包括：在所述阵列基板上沉积透明导电薄膜。

14.根据权利要求10-12任一项所述的光栅片，其特征在于，

所述R子光栅包括：l＝0.813um，Φ＝20％，t＝80nm，d＝20nm；

所述G子光栅包括：l＝0.813um，Φ＝36％，t＝60nm，d＝40nm；

所述B子光栅包括：l＝0.813um，Φ＝47％，t＝40nm，d＝60nm；

其中l为子光栅的周期长度，Φ为占空比，Φ＝w/l，w为子光栅开口区的开口宽度，t为子光栅上用于衍射的金属层的厚度，d为开口区与反光区之间的层间距。

15.一种液晶面板的制造方法，其特征在于，包括：

形成彩膜基板，所述彩膜基板上仅沉积透明导电薄膜；

形成阵列基板，所述阵列基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线，所述数据线和所述栅线围设形成像素单元；

形成如权利要求9-13任一项所述的光栅片，所述光栅片形成在玻璃基板、阵列基板或者彩膜基板上；

在所述光栅片形成在玻璃基板上时，对盒所述阵列基板与所述光栅片或者对盒所述彩膜基板与光栅片；

在所述光栅片形成在所述阵列基板或所述彩膜基板上时，对盒阵列基板与彩膜基板。