[发明专利]薄膜图案的沉积装置与方法

权利要求书

1.一种薄膜图案的沉积装置，包括：

冷却背板；

中介层板，固定于该冷却背板下方，其中该中介层板具有一低导热系数图案，以及与该低导热系数图案对比的一高导热系数图案；

掩模，位于该中介层板下方，该掩模具有一开口对应该高导热系数图案；以及

沉积薄膜元件，位于该掩模下方。

2.如权利要求1所述的薄膜图案的沉积装置，其中该高导热系数图案的导热系数为该低导热系数图案的导热系数的100倍至10000倍。

3.如权利要求1所述的薄膜图案的沉积装置，其中该掩模的组成包括金属或合金。

4.如权利要求1所述的薄膜图案的沉积装置，其中该高导热系数图案的组成包括铝合金、铜合金、或金等。

5.如权利要求1所述的薄膜图案的沉积装置，其中该低导热系数图案的组成包括工程塑胶、电木、或塑钢。

6.一种薄膜图案的沉积方法，包括：

提供权利要求1所述的薄膜图案的沉积装置；

固定一基板在该中介层板与该掩模之间，该基板直接接触该中介层板与该掩模，且该掩模开口露出部分该基板；

以该沉积薄膜元件沉积一薄膜于露出的该基板与该掩模上；以及

移开该掩模，使露出的该基板具有一薄膜图案。

7.如权利要求6所述的薄膜图案的沉积方法，其中沉积该薄膜于露出的该基板与该掩模上的步骤中，形成于露出的该基板上的薄膜与形成于该掩模上的薄膜的厚度比介于100∶1至1000∶1之间。

8.如权利要求6所述的薄膜图案的沉积方法，其中沉积该薄膜于露出的该基板与该掩模上的步骤中，该冷却背板的温度维持于6℃至-20℃之间。

9.如权利要求6所述的薄膜图案的沉积方法，其中该薄膜包括聚对二甲苯。

10.如权利要求6所述的薄膜图案的沉积方法，其中固定该基板于该中介层板与该掩模之间的步骤包括机械固定法、磁力固定法、或上述的组合。