[发明专利]用于监测纱线表面的颜色均匀性的方法及执行该方法的装置有效
申请号: | 201010539285.8 | 申请日: | 2010-09-29 |
公开(公告)号: | CN102087143A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | Z·贝兰;P·考萨利克;J·斯劳彭斯基;M·斯图萨克 | 申请(专利权)人: | 里特捷克有限公司 |
主分类号: | G01J3/50 | 分类号: | G01J3/50;G01N21/27 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘春元;王忠忠 |
地址: | 捷克奥尔利*** | 国省代码: | 捷克;CZ |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 监测 纱线 表面 颜色 均匀 方法 执行 装置 | ||
1.用于通过监测和评价由辐射源向纱线发射而产生的来自纱线的反射的辐射来监测纱线表面的颜色均匀性的方法,其特征在于,在分界面上由反射的辐射的传感器(6)扫描来自纱线(2)的反射的辐射(8)而通过线数字光学传感器(1)扫描绝对纱线直径(2),其中绝对纱线直径(2)的扫描和来自纱线(2)的反射的辐射(8)的扫描以相互时间同步的方式执行。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,由调制的辐射照射纱线(2),而依赖于辐射(4)的调制的时间路径,以循环的方式测量反射的辐射(8),并且,在至少两种情况下,将反射的辐射(8)的能量的量与调制的辐射的变化的强度进行比较,同时,将反射的辐射(8)的测量结果与由线数字光学传感器(1)测量纱线(2)的绝对直径的时间相应结果进行比较,并且,仅当反射的辐射(8)的改变不是由纱线(2)的绝对直径的改变生成的时,才发出有关纱线表面的颜色均匀性的信息。
3.如权利要求1或2中任一项所述的方法,其特征在于,所述纱线(2)在其沿着有色背景的通道内被照射,所述背景的辐射(4)的反射率相当于颜色均匀纱线(2)的辐射(4)的预期反射率。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,在纱线(2)的照射期间,依据纱线的颜色,控制有色背景的颜色和/或反射能力。
5.用于监测纱线表面的颜色均匀性的装置,其包括设置于邻近纱线通过的空间的辐射源,和反射的辐射的至少一个传感器,同时,该装置还包括评价装置,其特征在于,相对于辐射(4)的源(3),在纱线(2)通过的空间的后面,设置绝对纱线直径(2)的线数字光学传感器(1),其位于与辐射(4)的源(3)以及与反射的辐射(8)的传感器(6)的分界面,而辐射(4)的源(3)、线数字光学传感器(1),以及反射的辐射(8)的传感器(6)均与控制信号的源耦合,并且这些控制信号是相互同步的。
6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,所述线光学传感器(1)与控制信号的发生器(100)和微处理器(101)耦合,而控制信号的发生器(100)进一步与辐射(4)的源(3)耦合,而反射的辐射(8)的传感器(6),通过它的输出端与一对开关(S1,S2)的第一输入端耦合,其第二输入端均与控制信号的发生器(100)耦合,每个开关(S1,S2)的输出端与存储器(D1,D2)之一的输入端耦合,两个存储器(D1,D2)的输出端连接到比较元件(E)的输入端,比较元件(E)的输出端连接到微处理器(101)的输入端。
7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,控制信号的发生器(100)、所述开关(S1,S2)、存储器(D1,D2)和比较元件(E)是微处理器(101)的组成部分。
8.如权利要求6所述的装置,其特征在于,通过微处理器的内部装置的功能模拟来创建控制信号的发生器(100)、开关(S1,S2)、存储器(D1,D2)和比较元件(E)。
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