[发明专利]硅片清洗废水回用装置

权利要求书

1.一种硅片清洗废水回用装置，其特征是：包括回用水蓄水池（1）、增压水泵（2）、压力水罐（3）及脱胶机蓄水槽（4）；所述回用水蓄水池（1）与回用水进水管（11）相连通，所述回用水蓄水池（1）通过抽水管（15）与所述增压水泵（2）相连通，所述增压水泵（2）通过压力水罐进水管（31）与所述压力水罐（3）相连通，所述压力水罐（3）通过压力水罐出水管（33）与第一电磁阀（41）相连通，所述第一电磁阀（41）通过回用水补水管（42）与所述脱胶机蓄水槽（4）相连通，所述脱胶机蓄水槽（4）与自来水补水管（45）相连通，所述自来水补水管（45）上设置有第二电磁阀（44）；所述回用水蓄水池（1）内设置有第一液位传感器（13），所述压力水罐（3）上设置有压力传感器（32），所述第一液位传感器（13）及所述压力传感器（32）与所述增压水泵（2）的电控器电连接；所述脱胶机蓄水槽（4）内设置有第二液位传感器（43），所述第二液位传感器（43）与所述第一电磁阀（41）及所述第二电磁阀（44）电连接。

2.按照权利要求1所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述回用水蓄水池（1）低于地面。

3.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述回用水进水管（11）上设置有滤网（12）。

4.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述回用水蓄水池（1）上设置有溢流口（14）。

5.按照权利要求1或2所述的硅片清洗废水回用装置，其特征是：所述压力传感器（32）的上限值为0.3MPa，其下限值为0.2MPa。