[发明专利]连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统无效

专利信息
申请号: 201010298327.3 申请日: 2010-09-30
公开(公告)号: CN101962755A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 金烈 申请(专利权)人: 深圳市金凯新瑞光电有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 赵彦雄
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 连续 式多室 溅射 镀膜 气氛 隔离 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及真空镀膜技术,尤其涉及一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统。

背景技术

溅射技术是真空镀膜主要方式,现有技术中,涉及多次溅射的,一般采用非连续式分次溅射,中间需要转运和存贮环节。中间环节不仅令制造成成本提高,被镀物还容易在中间环节被氧化或污染,直接影响镀膜品质。采用这种方式的主要是因为现有的真空溅设装备,无法实现连续式作业,不同溅射室的工作气体和真空度有所不同,连续作业会导致工作气体的混同,无法镀膜。

本发明中所称的工作气,指溅射反应气体。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,以便实现每个镀膜室的气氛需要严格控制的连续式多室镀膜。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,包括至少二个溅射室,即第一溅射室和第二溅射室;其特征在于:还包括过度室,所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间;所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道,所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道;所述过度室连接真空发生装置,所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度,所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度;所述过度室还具有进气孔和排气孔,所述进气孔和所述排气孔均设置于所述第一通道与所述第二通道之间,气体流过所述进气孔流入所述排气孔,在所述第一通道与所述第二通道之间构成风幕。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:所述第一溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管,所述工作气输入管还连接第一单向阀,所述第一单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第一溅射室流入。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:所述第二溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管,所述工作气输入管还连接第二单向阀,所述第二单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第二溅射室流入。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:所述保护气为Ar,所述工作气为O2/N2/C2H2,等。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:所述风幕是Ar气风幕。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:所述第一溅射室和所述第二溅射室分别连接真空发生装置。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:还包括被镀物输送装置,所述被镀物输送装置由所述第一溅射室连续经过所述第一通道、所述过度室、所述第二通道,通向所述第二溅射室。

本发明的目的还可以通过以下技术方案实现:

一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,包括至少二个溅射室,即第一溅射室和第二溅射室;其特征在于:还包括过度室,所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间;所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道,所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道;所述过度室连接真空发生装置,所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度,所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度;所述过度室还具有进气孔,进气孔的轴心位于一个平面内。

连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,其特征在于:所述进气孔有两组或多组,每一组进气孔的轴心位于一个平面内,每一组进气孔两侧区域分别连通真空发生装置。

本发明的目的还可以通过以下技术方案实现:

一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,包括至少二个溅射室,即第一溅射室和第二溅射室;其特征在于:还包括过度室,所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间;所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道,所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道;所述过度室连接真空发生装置,所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度,所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度;所述过度室还具有进气孔,所述真空发生装置通过抽气孔连通至过度室,所述进气孔远离所述抽气孔。

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