[发明专利]连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统

权利要求书

1.一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：

还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；

所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；

所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；

所述过度室还具有进气孔和排气孔，所述进气孔和所述排气孔均设置于所述第一通道与所述第二通道之间，气体流过所述进气孔流入所述排气孔，在所述第一通道与所述第二通道之间构成风幕。

2.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第一溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管，所述工作气输入管还连接第一单向阀，所述第一单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第一溅射室流入。

3.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第二溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管，所述工作气输入管还连接第二单向阀，所述第二单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第二溅射室流入。

4.根据权利要求2或3所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述保护气为Ar，所述工作气为O₂/N₂/C₂H₂,等。

5.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述风幕是Ar气风幕。

6.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第一溅射室和所述第二溅射室分别连接真空发生装置。

7.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：还包括被镀物输送装置，所述被镀物输送装置由所述第一溅射室连续经过所述第一通道、所述过度室、所述第二通道，通向所述第二溅射室。

8.一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：

还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；

所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；

所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；

所述过度室还具有进气孔，进气孔的轴心位于一个平面内。

9.根据权利要求8所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述进气孔有两组或多组，每一组进气孔的轴心位于一个平面内，每一组进气孔两侧区域分别连通真空发生装置。

10.一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：

还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；

所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；

所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；

所述过度室还具有进气孔，所述真空发生装置通过抽气孔连通至过度室，所述进气孔远离所述抽气孔。